公开(公告)号：CN118082390A

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202311580373.6

申请日：2023-11-23

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 别府幸弥 ,  酒井伸明 ,  高柳良太

IPC: B41J29/06 ,  B41J2/01

Abstract: 本发明提供一种能够容易地实现高精度地平坦的框架的记录装置用框架以及记录装置。基底框架具有：顶面部件，其由板材构成；底面部件，其由板材构成，并且以与顶面部件平行的方式而配置；加强部件(23)，其被配置在顶面部件与底面部件之间，加强部件(23)由板材构成，并且包括与顶面部件以及底面部件交叉的平板状的主体部(30)，主体部(30)具有与底面部件抵接的第一抵接部(45)和与顶面部件抵接的第二抵接部(46)。

公开(公告)号：CN103182860B

公开(公告)日：2016-12-28

申请号：CN201210571221.5

申请日：2012-12-25

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 高柳良太

IPC: B41J25/24

CPC classification number: B41J25/001

Abstract: 本发明提供一种记录装置，其能够实现低成本化。所述记录装置具备：喷射头，其向记录介质喷射流体；头移动部，其使所述喷射头在第一方向上进行往返移动，所述头移动部具有：引导轴，其以沿着所述第一方向的方式而配置；第一滑架，其被所述引导轴所支承，并沿着该引导轴而在所述第一方向上进行移动；第二滑架，其以与所述喷射头一体的方式而被设置，并与所述第一滑架连接，且被设置为能够在其与该第一滑架之间，于第二方向上进行移动，其中，所述喷射头和所述记录介质之间的距离在所述第二方向上发生变化，并且，所述第二滑架以一部分与所述引导轴抵接的状态而被定位，从而限制了所述喷射头相对于所述第一方向的倾斜。

公开(公告)号：CN103182860A

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：CN201210571221.5

申请日：2012-12-25

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 高柳良太

IPC: B41J25/24

CPC classification number: B41J25/001

Abstract: 本发明提供一种记录装置，其能够实现低成本化。所述记录装置具备：喷射头，其向记录介质喷射流体；头移动部，其使所述喷射头在第一方向上进行往返移动，所述头移动部具有：引导轴，其以沿着所述第一方向的方式而配置；第一滑架，其被所述引导轴所支承，并沿着该引导轴而在所述第一方向上进行移动；第二滑架，其以与所述喷射头一体的方式而被设置，并与所述第一滑架连接，且被设置为能够在其与该第一滑架之间，于第二方向上进行移动，其中，所述喷射头和所述记录介质之间的距离在所述第二方向上发生变化，并且，所述第二滑架以一部分与所述引导轴抵接的状态而被定位，从而限制了所述喷射头相对于所述第一方向的倾斜。