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公开(公告)号：CN100389958C
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200510072629.8
申请日：2005-05-16
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/1632 , B41J2/162 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1634 , B41J2/1642 , B41J2/1643 , B41J2/1645 , B41J2/1646
Abstract: 一种制造喷嘴板(2)的方法。该喷嘴板(2)具有液滴适合经过其每一个而被喷射的多个喷嘴开口(22)。所述方法包括以下步骤：准备由硅作为主要材料制成的处理基板(硅基板10)，该处理基板具有两个主要表面；将用于支撑处理基板的支撑基板(50)设置在处理基板的一个主要表面上，其中处理基板经包括由树脂作为主要材料构成的树脂层的结合层，被结合到支撑基板；在处理基板由支撑基板50支撑的同时，通过使处理基板的另一表面接受蚀刻处理，在处理基板的另一表面上形成多个喷嘴开口(22)，其中树脂层起到蚀刻处理的阻止层的作用；和使处理基板脱离支撑基板。
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公开(公告)号：CN101125480A
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200710141079.X
申请日：2007-08-16
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/1631 , B41J2/161 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1632 , B41J2/1642
Abstract: 本发明提供一种可使喷嘴高密度化且能够防止喷嘴间的压力干涉的液滴喷头、液滴喷头的制造方法等。液滴喷头(10)至少具备：喷嘴基板(1)、具有喷出室(31)的腔基板(3)、具有作为贮存室(23)的贮存室凹部(23a)的贮存室基板(2)，该液滴喷头(10)具有树脂薄膜(111)，所述树脂薄膜(111)不是形成在贮存室基板(2)与喷嘴基板(1)或者腔基板(3)的各粘接面上，而是通过成膜形成在贮存室凹部(23a)的内面整体上，贮存室凹部(23a)的底面的一部分是由树脂薄膜(111)构成的缓冲压力变动的隔膜部(100)。
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公开(公告)号：CN1785674A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510131041.5
申请日：2005-12-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/1634 , B41J2/16 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , B41J2/1646 , B41J2002/043 , Y10T29/42 , Y10T29/49401 , Y10T156/1056
Abstract: 提供一种制造中硅基板不会产生裂纹或缺陷，而且成品率也高的液滴喷头的制造方法。本发明的液滴喷头的制造方法，具有：对硅基板(30)的一面蚀刻，形成成为喷嘴(8)的凹部的工序；在形成有成为硅基板(30)的喷嘴(8)的凹部的面上粘合支持基板(40)的工序；从硅基板(30)的粘合了支持基板(40)面的反面将硅基板(30)薄板化的工序；和在硅基板薄板化后将支持基板(40)与硅基板(30)剥离的工序。
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公开(公告)号：CN1294540A
公开(公告)日：2001-05-09
申请号：CN00800219.3
申请日：2000-02-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B23K26/38 , H01L21/302 , H01L21/3205 , B81C5/00 , B41J2/16
CPC classification number: B81C1/00087 , B23K26/009 , B23K26/066 , B23K26/18 , B23K26/384 , B41J2/16 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1645 , B81C2201/0143 , H01L21/486 , H01L21/76898 , H01L23/481 , H01L2223/54453 , H01L2224/13 , H01L2224/13009 , H01L2224/14181 , H01L2224/16 , H01L2224/16146 , H01L2224/81
Abstract: 本发明涉及一种利用激光加工形成高长度直径比的加工孔的加工被加工物的方法。在硅基板(1)的表面和背面分别形成氧化硅膜(2)作为保护膜,经该保护膜(2)向硅基板(1)照射激光进行开孔加工。或者,向硅基板(1)照射圆偏振或随机偏振的激光。由此获得高长度直径比的加工孔,而且,加工孔形状也成为真正笔直的孔,提高了加工精度。
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公开(公告)号：CN101327682B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200810126670.2
申请日：2008-06-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/1433 , B41J2/162 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632
Abstract: 本发明提供一种可以实现排出特性提高、喷嘴密度高密度化的喷嘴基板、液滴喷头以及喷嘴基板、液滴喷头的制造方法和液滴喷出装置。其中，用于排出液滴的喷嘴孔(11)包括：形成为与硅基板表面垂直的第一喷嘴部(11a)；第二喷嘴部(11b)，与第一喷嘴部同轴设置，其剖面面积大于第一喷嘴部的剖面面积；以及倾斜部(11c)，其剖面面积从第一喷嘴部朝向第二喷嘴部递增。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100429079C
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200510131041.5
申请日：2005-12-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 提供一种制造中硅基板不会产生裂纹或缺陷，而且成品率也高的液滴喷头的制造方法。本发明的液滴喷头的制造方法，具有：对硅基板(30)的一面蚀刻，形成成为喷嘴(8)的凹部的工序；在形成有成为硅基板(30)的喷嘴(8)的凹部的面上粘合支持基板(40)的工序；从硅基板(30)的粘合了支持基板(40)面的反面将硅基板(30)薄板化的工序；和在硅基板薄板化后将支持基板(40)与硅基板(30)剥离的工序。
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公开(公告)号：CN1788999A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510131045.3
申请日：2005-12-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 提供具有施加相同电压时发生压力高且绝缘耐性优异的绝缘膜的静电驱动器、适用该静电驱动器的液滴喷头及其制造方法、适用该液滴喷头的打印性能等高的液滴喷出装置以及适用上述静电驱动器的驱动性能高的设备。其具备振动板(12)、与该振动板(12)隔开间隙对置的对置电极(17)、在振动板(12)侧的表面形成的绝缘膜(16)，该绝缘膜(16)具有至少由相对介电常数比氧化硅高的物质构成的高介电常数膜(16a)。
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公开(公告)号：CN1567502A
公开(公告)日：2005-01-19
申请号：CN03148740.8
申请日：2003-06-24
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供了一种稳定性、耐久性良好的发热元件和基板及其高效率和高精度的制造方法，以及使用它们的装置。以至少一部分扩散了硼等杂质的具有导电性的硅基板作为材料，进行蚀刻加工，与硅基板一体地制作加热部，该加热部设置去除角部分或具有圆形角部分的一个或多个狭缝。与此同时，为了控制加热部的加热状态，一体地形成在下部设置的凹部。
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公开(公告)号：CN104049358B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201410093990.8
申请日：2014-03-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 荒川克治
CPC classification number: G02B5/28 , B32B37/0076 , B32B38/0008 , G01J3/26 , G01J3/51 , G02B26/001
Abstract: 本发明涉及干涉滤波器及其制造方法、光学模块、及接合基板。其中，波长可变干涉滤波器（5）具备：固定基板（51）；可动基板（52）；固定反射膜（54），设置于固定基板（51）；可动反射膜（55），设置于可动基板（52），与固定反射膜（54）相对；以及第一接合部（57），接合固定基板（51）和可动基板（52），第一接合部（57）具有：树脂层（571A），设置于固定基板（51）；金属层（571B），在固定基板（51）上覆盖树脂层（571A）而设置，塑性比树脂层（571A）小；以及金属层572B，设置于可动基板（52），接合于金属层（571B）。
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公开(公告)号：CN104049358A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410093990.8
申请日：2014-03-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 荒川克治
CPC classification number: G02B5/28 , B32B37/0076 , B32B38/0008 , G01J3/26 , G01J3/51 , G02B26/001
Abstract: 本发明涉及干涉滤波器及其制造方法、光学模块、及接合基板。其中，波长可变干涉滤波器（5）具备：固定基板（51）；可动基板（52）；固定反射膜（54），设置于固定基板（51）；可动反射膜（55），设置于可动基板（52），与固定反射膜（54）相对；以及第一接合部（57），接合固定基板（51）和可动基板（52），第一接合部（57）具有：树脂层（571A），设置于固定基板（51）；金属层（571B），在固定基板（51）上覆盖树脂层（571A）而设置，塑性比树脂层（571A）小；以及金属层572B，设置于可动基板（52），接合于金属层（571B）。
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