公开(公告)号：CN102890361A

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201210254429.4

申请日：2012-07-20

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 伊藤智 ,  小野洋平

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/1333 ,  G03B21/00

CPC classification number: G02F1/1333 ,  G02F1/133345 ,  G02F1/1335 ,  G02F2001/133302 ,  G03B21/006

Abstract: 提供一种电光装置、电光装置的制造方法及投影型显示装置，能通过在基板上成膜的密封用的膜确实地堵塞用于构成反射部的沟槽的开口部，并且，将沟槽的侧面被密封用的膜覆盖的情况抑制到最小限度。在电光装置100中，在中空地密封沟槽260时，在形成第1密封膜27之前，在沟槽260内预先形成牺牲膜24，在形成第1密封膜27之后，经由第1密封膜27的贯通部275除去牺牲膜。并且，在第1密封膜27上形成第2密封膜28，用第2密封膜28堵塞第1密封膜27的贯通部275。因此，能以堵塞沟槽260的开口部265的方式形成第1密封膜27，并且，能防止形成第1密封膜27直到沟槽260的里面。