公开(公告)号：CN102362225A

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN201080012819.X

申请日：2010-03-25

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 上原刚 ,  青山哲平

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/16 ,  G03F1/48 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/38 ,  G03F1/68

Abstract: 本发明是提供一种抗蚀剂图案的形成方法及设备。当在光致抗蚀剂等设备上形成抗蚀剂图案时，通过均匀化抗蚀剂层的厚度后进行曝光，从而得到良好的抗蚀剂图案。对基板(91)涂敷感光性的抗蚀剂而形成抗蚀剂层(93)(抗蚀剂涂敷工序)。然后，使灰化用处理气体通过压力接近大气压的放电空间(13)而喷出，并与抗蚀剂层(93)接触(大气压远程等离子灰化工序)。接着，对抗蚀剂层(93)局部地照射光(曝光工序)。然后，使抗蚀剂层(93)接触显影液(5)(显影工序)。

公开(公告)号：CN102362224A

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN201080012795.8

申请日：2010-03-25

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 上原刚 ,  青山哲平

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/16 ,  G03F1/48 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/38 ,  G03F1/68

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂图案的形成方法及设备。当在光致抗蚀剂等设备上形成抗蚀剂图案时，会提高抗蚀剂表面的湿润性，提高显影的均匀性。在基板(91)上涂敷感光性的抗蚀剂而形成抗蚀剂层(93)(抗蚀剂涂敷工序)。接着，对抗蚀剂层(93)局部地照射光(曝光工序)。然后，使亲液化用处理气体通过压力接近大气压的放电空间(23)而喷出，并与抗蚀剂层(93)接触(大气压远程等离子亲液化工序)。接着，使抗蚀剂层(93)接触显影液(5)(显影工序)。