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公开(公告)号：CN112368569A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980044978.9
申请日：2019-07-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明揭示一种半导体检查工具，其使用多个光学模式扫描半导体裸片。基于所述扫描的结果识别所述半导体裸片上的多个缺陷。所述多个缺陷的相应缺陷对应于所述半导体检查工具的相应像素组。所述扫描无法解析所述相应缺陷。所述结果包括基于所述相应像素组的像素强度的多维数据，其中所述多维数据的每一维对应于所述多个光学模式的相异模式。将判别函数应用于所述结果以将所述相应像素组的所述多维数据变换为相应分数。至少部分基于所述相应分数，将所述相应缺陷划分到相异类别中。
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公开(公告)号：CN112655070B
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN201980057387.5
申请日：2019-07-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明揭示一种具有灯室校正的等离子体光源。所述系统可包含经配置以产生泵浦照明的泵浦源。可通过椭圆反射器元件将所述泵浦照明引导到等离子体灯内所围封的气体体积以便产生等离子体。所述等离子体可经配置以产生宽带照明。所述系统还可包含经配置以变更所述泵浦照明以校正由所述等离子体灯引入的像差的校正板及/或非球面椭圆反射器元件。所述系统还可包含经配置以变更所述宽带照明以校正由所述系统的光学元件引入的像差的额外非球面校正板。
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公开(公告)号：CN112368569B
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN201980044978.9
申请日：2019-07-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明揭示一种半导体检查工具，其使用多个光学模式扫描半导体裸片。基于所述扫描的结果识别所述半导体裸片上的多个缺陷。所述多个缺陷的相应缺陷对应于所述半导体检查工具的相应像素组。所述扫描无法解析所述相应缺陷。所述结果包括基于所述相应像素组的像素强度的多维数据，其中所述多维数据的每一维对应于所述多个光学模式的相异模式。将判别函数应用于所述结果以将所述相应像素组的所述多维数据变换为相应分数。至少部分基于所述相应分数，将所述相应缺陷划分到相异类别中。
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公开(公告)号：CN112655070A
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN201980057387.5
申请日：2019-07-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明揭示一种具有灯室校正的等离子体光源。所述系统可包含经配置以产生泵浦照明的泵浦源。可通过椭圆反射器元件将所述泵浦照明引导到等离子体灯内所围封的气体体积以便产生等离子体。所述等离子体可经配置以产生宽带照明。所述系统还可包含经配置以变更所述泵浦照明以校正由所述等离子体灯引入的像差的校正板及/或非球面椭圆反射器元件。所述系统还可包含经配置以变更所述宽带照明以校正由所述系统的光学元件引入的像差的额外非球面校正板。
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