公开(公告)号：CN106165065B

公开(公告)日：2019-08-30

申请号：CN201580018393.1

申请日：2015-04-02

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： F·拉斯克 ,  M·M·丹尼斯帕纳 ,  P·苏布拉马尼扬 ,  熊亚霖

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

Abstract: 本发明揭示一种用于产生用于掩模的高密度配准映射图的方法及系统。数据准备模块产生所述掩模的多个锚点。另外，所述数据准备模块产生多个样本点。也在所述数据准备模块中产生权重，且所述权重随后被用于数据融合模块中。根据所产生的配方，在掩模坐标系中用配准工具来测量锚点的位置。根据所产生的配方，在掩模坐标系中用检验工具来确定样本点的位置。将所述锚点的所述测量的位置及所述样本点的所述测量的位置传递到数据融合模块，其中确定配准映射图。

公开(公告)号：CN104662543A

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201380049662.1

申请日：2013-09-24

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： M·M·丹尼斯帕纳 ,  A·塞兹希内尔

IPC: G06F19/00 ,  G06F11/00

CPC classification number: G06T7/001 ,  G06T2207/10056 ,  G06T2207/30148

Abstract: 本发明揭示一种用于执行基于模型的对齐及临界尺寸测量的方法及系统。所述方法包含：利用成像装置来获得针对光掩模指定的测量部位的至少一个光学图像；检索光掩模的设计并利用所述成像装置的计算机模型来产生所述测量部位的至少一个所模拟图像；调整所述计算机模型的至少一个参数以使所模拟图像与所述光学图像之间的相异性最小化，其中所述参数包含至少图案对齐参数或临界尺寸参数；及在所述所模拟图像与所述光学图像之间的相异性被最小化时，报告所述计算机模型的所述图案对齐参数或所述临界尺寸参数。

公开(公告)号：CN106165065A

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201580018393.1

申请日：2015-04-02

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： F·拉斯克 ,  M·M·丹尼斯帕纳 ,  P·苏布拉马尼扬 ,  熊亚霖

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

Abstract: 本发明揭示一种用于产生用于掩模的高密度配准映射图的方法及系统。数据准备模块产生所述掩模的多个锚点。另外，所述数据准备模块产生多个样本点。也在所述数据准备模块中产生权重，且所述权重随后被用于数据融合模块中。根据所产生的配方，在掩模坐标系中用配准工具来测量锚点的位置。根据所产生的配方，在掩模坐标系中用检验工具来确定样本点的位置。将所述锚点的所述测量的位置及所述样本点的所述测量的位置传递到数据融合模块，其中确定配准映射图。