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公开(公告)号：CN111094950B
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN201880059813.4
申请日：2018-09-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明描述用于测量样品同时通过旋转偏光器元件来主动稳定经受偏光变化的光学测量光束的方法及系统。通过基于聚焦测量光束点的测量而主动控制光束路径中的光学元件的位置来补偿由旋转偏光器元件诱发的所述聚焦测量光束点的移动。可采用反馈及前馈两种控制方案来减小光束位置误差。在一个方面中，测量系统包含照明光束路径、收集光束路径或照明光束路径及收集光束路径两者中的旋转光学偏光器、光束位置传感器及主动光束补偿元件。由所述光束位置传感器检测光束位置误差，且将控制命令传送到所述主动光束补偿元件以减小测得的光束位置误差。
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公开(公告)号：CN110832310A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201880045306.5
申请日：2018-07-11
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N23/201 , G01B15/00 , H01L21/66
Abstract: 本文中呈现用于基于高亮度多色反射小角度x射线散射测量RSAXS度量而执行半导体结构的测量的方法及系统。同时或依序用小的照射射束点大小在波长、入射角及方位角的一定范围内执行RSAXS测量。在一些实施例中，用在软x射线SXR区域中的x射线辐射以在5度到20度的范围内的掠入射角执行RSAXS测量。在一些实施例中，x射线照射源大小为10微米或更小，且聚焦光学器件以0.2或更小的倍率因子将源区投射到晶片上，从而实现小于2微米的入射x射线照射点大小。在另一方面中，有源聚焦光学器件同时或依序将照射波长、入射角及方位角或其任何组合的经编程范围投射到度量区上。
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公开(公告)号：CN110383053B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN201880014362.2
申请日：2018-01-02
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N23/207 , G01B15/00
Abstract: 在本文中描述用于控制照射射束光点大小以达成对不同大小的计量目标的透射式小角度X射线散射测量T‑SAXS测量的方法及系统。X射线照射光学器件子系统包含：一或多个聚焦光学元件，其具有在固定位置处的物平面及像平面；及一或多个照射孔径或狭缝，其独立地控制放大率及射束发散度。在其它方面中，连同放大率及射束发散度一起控制照射源大小及形状。以此方式，独立地控制射束发散度及样品上的照射光点大小，同时维持恒定照射通量。
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公开(公告)号：CN113348361B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202080010187.7
申请日：2020-01-16
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本文中呈现用于运用两个或多于两个测量子系统执行半导体结构的共址测量的方法及系统。为了实现足够小的测量盒大小，计量系统监测且校正每一计量子系统的测量点与计量目标的对准以实现每一计量子系统的所述测量点与所述计量目标的最大共址。另一方面，通过两个或多于两个计量子系统在相同晶片位置处以高处理量同时执行测量。此外，所述计量系统有效地解耦与每一测量子系统相关联的同时获取的测量信号。此最大化与通过两个或多于两个计量子系统同时测量相同计量相关联的信号信息。
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公开(公告)号：CN113519044A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202080018399.X
申请日：2020-03-12
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/67 , B01D53/047 , B01D53/04 , B01D3/00 , B01D53/22
Abstract: 本发明公开一种例如用于半导体处理设备的处理腔室，其与回收单元连接。所述回收单元包含用于缓冲气体的第一存储槽及用于稀有气体的第二存储槽。两个存储槽与所述回收单元中的柱体连接。所述回收单元及处理腔室可作为闭合系统操作。所述稀有气体可按可变流速输送，而所述回收单元中的分离按恒定流量条件操作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111094950A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880059813.4
申请日：2018-09-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明描述用于测量样品同时通过旋转偏光器元件来主动稳定经受偏光变化的光学测量光束的方法及系统。通过基于聚焦测量光束点的测量而主动控制光束路径中的光学元件的位置来补偿由旋转偏光器元件诱发的所述聚焦测量光束点的移动。可采用反馈及前馈两种控制方案来减小光束位置误差。在一个方面中，测量系统包含照明光束路径、收集光束路径或照明光束路径及收集光束路径两者中的旋转光学偏光器、光束位置传感器及主动光束补偿元件。由所述光束位置传感器检测光束位置误差，且将控制命令传送到所述主动光束补偿元件以减小测得的光束位置误差。
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公开(公告)号：CN114641685A
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202080075446.4
申请日：2020-10-27
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N23/20008 , H01L21/66 , G01B15/00
Abstract: 本文中呈现用于从采用低原子序数低温标靶的激光生成等离子体(LPP)产生X射线照明的方法及系统。将经高度聚焦短持续时间激光脉冲引导到低原子序数经低温冻结标靶，从而点燃等离子体。在一些实施例中，标靶材料包含具有小于19的原子序数的一或多种元素。在一些实施例中，低原子序数低温标靶材料涂覆于经低温冷却桶的表面上，所述经低温冷却桶经配置以相对于入射激光而旋转及平移。在一些实施例中，低原子序数低温LPP光源产生用于测量半导体结构的结构特性及材料特性的在软X射线(SXR)光谱范围内的多谱线或宽带X射线照明。在一些实施例中，利用如本文中所描述的低原子序数低温LPP照明源来执行反射小角度X射线散射测量术测量。
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公开(公告)号：CN113348361A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202080010187.7
申请日：2020-01-16
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本文中呈现用于运用两个或多于两个测量子系统执行半导体结构的共址测量的方法及系统。为了实现足够小的测量盒大小，计量系统监测且校正每一计量子系统的测量点与计量目标的对准以实现每一计量子系统的所述测量点与所述计量目标的最大共址。另一方面，通过两个或多于两个计量子系统在相同晶片位置处以高处理量同时执行测量。此外，所述计量系统有效地解耦与每一测量子系统相关联的同时获取的测量信号。此最大化与通过两个或多于两个计量子系统同时测量相同计量相关联的信号信息。
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公开(公告)号：CN110383053A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880014362.2
申请日：2018-01-02
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N23/207 , G01B15/00
Abstract: 在本文中描述用于控制照射射束光点大小以达成对不同大小的计量目标的透射式小角度X射线散射测量T-SAXS测量的方法及系统。X射线照射光学器件子系统包含：一或多个聚焦光学元件，其具有在固定位置处的物平面及像平面；及一或多个照射孔径或狭缝，其独立地控制放大率及射束发散度。在其它方面中，连同放大率及射束发散度一起控制照射源大小及形状。以此方式，独立地控制射束发散度及样品上的照射光点大小，同时维持恒定照射通量。
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公开(公告)号：CN116583745A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202180080953.1
申请日：2021-12-08
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N23/20025
Abstract: 本文中呈现用于基于遍及具有小实体占据面积的小照明点大小的高亮度软性X射线(SXR)照明执行半导体结构的测量的方法及系统。一方面，基于SXR的度量衡系统的聚焦光学器件以至少1.25的缩小率将照明源的图像投射到受测量样品上。另一方面，从所述X射线照明源到所述受测量样品的照明光束路径小于2米。另一方面，基于SXR的测量是在软性X射线区(即，8到3000eV)中使用X射线辐射执行。在一些实施例中，基于SXR的测量是以在从接近零度到90度的范围内的掠入射角执行。在一些实施例中，照明光学器件以50或更小的缩小率将照明源的图像投射到受测量样品上。
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