公开(公告)号：CN118119839A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202380013725.1

申请日：2023-03-30

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： A·塞兹希内尔 ,  P·麦克布赖德 ,  I·巴塔查里亚 ,  R·M·丹恩

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G06T7/00 ,  G06T5/70 ,  H01L21/66

Abstract: 一种检验系统包含控制器，所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器。所述程序指令致使所述一或多个处理器接收样本的第一扫描路径的第一组重复扫描带的至少第一部分。所述程序指令致使所述一或多个处理器通过平均化所述第一组重复扫描带的所述第一部分而产生图像。平均化所述第一组重复扫描带的所述第一部分降低所述图像中的噪声。所述程序指令致使所述一或多个处理器使用所述图像检测所述样本的检验区中的一或多个缺陷。

公开(公告)号：CN117980729A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202380013702.0

申请日：2023-03-30

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： K·S·维尔克 ,  周珉川 ,  I·巴塔查里亚 ,  A·塞兹希内尔

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/95 ,  G06T7/00 ,  G06V10/764 ,  G06V10/40 ,  G06V10/82 ,  G06N3/0464 ,  H01L21/66

Abstract: 一种检验系统可通过以下者开发检验配方：使用与N种不同光学检验模式相关联的一或多个光学检验子系统来产生初步样本的N个检验图像；使用分类器运用来自数目M种所述光学检验模式的至少一些组合的所述检验图像来产生所述初步样本的位置中的每一者在背景或缺陷类别中的概率，其中M大于一且小于N并对应于待包含在所述检验配方中的所述光学检验模式的数目；及基于描述所述背景与缺陷类别之间的区别的度量来选择M种所述光学检验模式的所述组合中的一者。所述检验系统可进一步使用运用M种所述光学检验模式的所述选定组合产生的M个检验图像来识别测试样本上的缺陷。