公开(公告)号：CN117980729A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202380013702.0

申请日：2023-03-30

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： K·S·维尔克 ,  周珉川 ,  I·巴塔查里亚 ,  A·塞兹希内尔

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/95 ,  G06T7/00 ,  G06V10/764 ,  G06V10/40 ,  G06V10/82 ,  G06N3/0464 ,  H01L21/66

Abstract: 一种检验系统可通过以下者开发检验配方：使用与N种不同光学检验模式相关联的一或多个光学检验子系统来产生初步样本的N个检验图像；使用分类器运用来自数目M种所述光学检验模式的至少一些组合的所述检验图像来产生所述初步样本的位置中的每一者在背景或缺陷类别中的概率，其中M大于一且小于N并对应于待包含在所述检验配方中的所述光学检验模式的数目；及基于描述所述背景与缺陷类别之间的区别的度量来选择M种所述光学检验模式的所述组合中的一者。所述检验系统可进一步使用运用M种所述光学检验模式的所述选定组合产生的M个检验图像来识别测试样本上的缺陷。