Patent search ap:("科磊股份有限公司") AND inv:"C·菲尔普斯" Page 1

1.

发明公开
通过对重叠结构上的反向散射电子建模以测量叠加的目标及算法审中-实审

公开(公告)号：CN115917436A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202180043924.8

申请日：2021-06-30

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： N·古特曼 , O·阿切 , C·菲尔普斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种叠加目标包含具有安置于样本上的底部光栅结构及安置于所述底部光栅结构上的顶部光栅结构的光栅覆光栅结构。所述叠加目标进一步包含包括所述底部光栅结构但不包含所述顶部光栅结构的校准扫描位置及包含所述顶部光栅结构及所述底部光栅结构的叠加扫描位置。

Patent Agency Ranking