公开(公告)号：CN110596146B

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN201910872426.9

申请日：2015-10-13

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： S·潘戴夫 ,  D·桑科 ,  陆伟 ,  S·斯里法思塔发

IPC: G01N21/956 ,  G03F7/20 ,  G06T7/00 ,  G06T7/33 ,  H04N5/225

Abstract: 本申请涉及一种用于基于图像的测量及基于散射术的叠对测量的信号响应度量。采用各自具有沿相反方向的经编程偏移的两个叠对目标来执行叠对测量。基于零级散射术信号测量叠对误差，且以两个不同方位角从每一目标收集散射术数据。另外，本发明呈现用于基于所测量的基于图像的训练数据而创建基于图像的测量模型的方法及系统。接着使用经训练的基于图像的测量模型来直接依据从其它晶片收集的所测量图像数据计算一或多个所关注参数的值。本文中描述的用于基于图像的测量的方法及系统适用于度量应用及检验应用两者。

公开(公告)号：CN110596146A

公开(公告)日：2019-12-20

申请号：CN201910872426.9

申请日：2015-10-13

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： S·潘戴夫 ,  D·桑科 ,  陆伟 ,  S·斯里法思塔发

IPC: G01N21/956 ,  G03F7/20 ,  G06T7/00 ,  G06T7/33 ,  H04N5/225

Abstract: 本申请涉及一种用于基于图像的测量及基于散射术的叠对测量的信号响应度量。采用各自具有沿相反方向的经编程偏移的两个叠对目标来执行叠对测量。基于零级散射术信号测量叠对误差，且以两个不同方位角从每一目标收集散射术数据。另外，本发明呈现用于基于所测量的基于图像的训练数据而创建基于图像的测量模型的方法及系统。接着使用经训练的基于图像的测量模型来直接依据从其它晶片收集的所测量图像数据计算一或多个所关注参数的值。本文中描述的用于基于图像的测量的方法及系统适用于度量应用及检验应用两者。

公开(公告)号：CN110520715A

公开(公告)日：2019-11-29

申请号：CN201880025696.X

申请日：2018-03-01

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： S·潘戴夫 ,  陆伟 ,  A·舒杰葛洛夫

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/47 ,  G01N21/95

Abstract: 本发明描述用于基于训练测量模型的稳固叠加误差测量的方法及系统。从由基于散射测量的叠加计量系统从实验设计DOE晶片收集的原始散射测量数据训练所述测量模型。每一测量位点包含以编程叠加变化及已知工艺变化制造的一或多个计量目标。以已知计量系统变化测量每一测量位点。以此方式，所述测量模型经训练以使实际叠加与影响叠加测量的工艺变化及计量系统变化分离。因此，由所述训练测量模型估计实际叠加对工艺变化及计量系统变化具稳固性。基于从用于执行测量的相同计量系统收集的散射测量数据来训练所述测量模型。因此，所述测量模型对系统误差、不对称性等等不敏感。

公开(公告)号：CN107076681A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580055448.6

申请日：2015-10-13

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： S·潘戴夫 ,  D·桑科 ,  陆伟 ,  S·斯里法思塔发

IPC: G01N21/956 ,  G06T7/00

Abstract: 本文中呈现用于测量通过连续光刻工艺而形成于衬底上的结构之间的叠对误差的方法及系统。采用各自具有沿相反方向的经编程偏移的两个叠对目标来执行叠对测量。基于零级散射术信号测量叠对误差，且以两个不同方位角从每一目标收集散射术数据。另外，本发明呈现用于基于所测量的基于图像的训练数据而创建基于图像的测量模型的方法及系统。接着使用经训练的基于图像的测量模型来直接依据从其它晶片收集的所测量图像数据计算一或多个所关注参数的值。本文中描述的用于基于图像的测量的方法及系统适用于度量应用及检验应用两者。

公开(公告)号：CN114830141B

公开(公告)日：2023-11-03

申请号：CN202080084454.5

申请日：2020-11-16

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： S·潘戴夫 ,  陆伟 ,  D·桑科

IPC: H01L21/66

Abstract: 采用用于基于性能度量来训练及实施计量配方的方法及系统来定量地特性化计量系统在特定测量应用中的测量性能。采用性能度量以正规化在测量模型训练、基于模型的回归或两者期间采用的优化过程。

公开(公告)号：CN114830141A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202080084454.5

申请日：2020-11-16

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： S·潘戴夫 ,  陆伟 ,  D·桑科

IPC: G06N7/00 ,  G06N20/00 ,  H01L21/66

Abstract: 采用用于基于性能度量来训练及实施计量配方的方法及系统来定量地特性化计量系统在特定测量应用中的测量性能。采用性能度量以正规化在测量模型训练、基于模型的回归或两者期间采用的优化过程。

公开(公告)号：CN107076681B

公开(公告)日：2019-12-31

申请号：CN201580055448.6

申请日：2015-10-13

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： S·潘戴夫 ,  D·桑科 ,  陆伟 ,  S·斯里法思塔发

IPC: G01N21/956 ,  G06T7/00 ,  G06T7/33 ,  G03F7/20

Abstract: 本文中呈现用于测量通过连续光刻工艺而形成于衬底上的结构之间的叠对误差的方法及系统。采用各自具有沿相反方向的经编程偏移的两个叠对目标来执行叠对测量。基于零级散射术信号测量叠对误差，且以两个不同方位角从每一目标收集散射术数据。另外，本发明呈现用于基于所测量的基于图像的训练数据而创建基于图像的测量模型的方法及系统。接着使用经训练的基于图像的测量模型来直接依据从其它晶片收集的所测量图像数据计算一或多个所关注参数的值。本文中描述的用于基于图像的测量的方法及系统适用于度量应用及检验应用两者。