公开(公告)号：CN101576346A

公开(公告)日：2009-11-11

申请号：CN200910137671.1

申请日：2009-05-07

Applicant: 科发伦材料株式会社

Inventor： 大桥忠 ,  梅本净二郎 ,  一木豪

IPC: F27B14/10 ,  C30B15/10 ,  C04B41/87

Abstract: 本发明涉及用于熔化硅的坩埚和该坩埚使用的脱模剂。根据本发明的用于熔化硅的坩埚是包括坩埚主体和至少在该坩埚主体的内表面上形成的保护膜的用于熔化硅的坩埚，该坩埚主体包括耐热部件，其中该保护膜具有SiOxNy的组分，其中X＞0且Y＞0。根据本发明的用于熔化硅的坩埚对于硅块具有优异的释放能力，减小硅熔料中溶入的杂质量，并且可以以低成本制造。此外，本发明提供一种在用于熔化硅的坩埚的制造中使用的脱模剂。

公开(公告)号：CN102589286A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201210027444.5

申请日：2009-05-07

Applicant: 科发伦材料株式会社

Inventor： 大桥忠 ,  梅本净二郎 ,  一木豪

IPC: F27B14/10 ,  C30B15/10 ,  C04B41/87

CPC classification number: C30B11/002 ,  C30B28/06 ,  C30B29/06 ,  C30B35/002 ,  Y10T117/1024

Abstract: 本发明涉及用于熔化硅的坩埚和该坩埚使用的脱模剂。根据本发明的用于熔化硅的坩埚是包括坩埚主体和至少在该坩埚主体的内表面上形成的保护膜的用于熔化硅的坩埚，该坩埚主体包括耐热部件，其中该保护膜具有SiOxNy的组分，其中X＞0且Y＞0。根据本发明的用于熔化硅的坩埚对于硅块具有优异的释放能力，减小硅熔料中溶入的杂质量，并且可以以低成本制造。此外，本发明提供一种在用于熔化硅的坩埚的制造中使用的脱模剂。