公开(公告)号：CN103842856B

公开(公告)日：2015-12-02

申请号：CN201180073934.2

申请日：2011-08-01

Applicant: 福美化学工业株式会社

Inventor： 齐藤昌宏 ,  桥本博一 ,  池田由香里

IPC: G02B1/14 ,  G02B1/115

CPC classification number: G02B1/14 ,  G02B1/04 ,  G02B1/105 ,  G02B1/11 ,  G02B1/115 ,  G02B1/18

Abstract: 提供一种防反射膜，其具有高防反射效果以及优异的耐擦伤性和耐湿性，并且包含具有小于1.48的折射率和50-200nm的厚度的低折射率层，所述低折射率层以5-95重量%:95-5重量%的配合比包含(A)具有10-150nm的平均粒径和1.44以下的折射率的低折射率中空硅溶胶和(B)具有5-110nm的平均粒径和1.44-1.50的折射率的硅溶胶，并且以60-99重量%:40-1重量%的配合比包含(C)硅烷偶联化合物或其水解产物和(D)金属螯合化合物，其中(A)和(B)的总量与(C)和(D)的总量之比为10-50重量%:90-50重量%，以及(A)相对于所述低折射率层的总量为30重量%以下。还提供一种防反射板，对于其，将该防反射膜装置在透明树脂基板上。

公开(公告)号：CN103842856A

公开(公告)日：2014-06-04

申请号：CN201180073934.2

申请日：2011-08-01

Applicant: 福美化学工业株式会社

Inventor： 齐藤昌宏 ,  桥本博一 ,  池田由香里

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/10

CPC classification number: G02B1/14 ,  G02B1/04 ,  G02B1/105 ,  G02B1/11 ,  G02B1/115 ,  G02B1/18

Abstract: 本发明提供一种防反射膜，其具有高防反射效果以及优异的耐擦伤性和耐湿性，并且包含具有小于1.48的折射率和50-200nm的厚度的低折射率层，所述低折射率层以5-95重量%∶95-5重量%的配合比包含(A)具有10-150nm的平均粒径和1.44以下的折射率的低折射率中空硅溶胶和(B)具有5-110nm的平均粒径和1.44-1.50的折射率的硅溶胶，并且以60-99重量%∶40-1重量%的配合比包含(C)硅烷偶联化合物或其水解产物和(D)金属螯合化合物，其中(A)和(B)的总量与(C)和(D)的总量之比为10-50重量%∶90-50重量%，以及(A)相对于所述低折射率层的总量为30重量份以下。还提供一种防反射板，对于其，将该防反射膜装置在透明树脂基板上。