一种全溶液法制备场致发射电子源器件

    公开(公告)号:CN105869968A

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201610386943.1

    申请日:2016-06-03

    Applicant: 福州大学

    CPC classification number: H01J1/304 H01J9/02 H01J2201/304 H01J2209/0223

    Abstract: 本发明涉及一种全溶液法制备场致发射电子源器件,采用全溶液法制备场致发射电子源的阴极基板与阳极基板,并将所述阳极基板和所述阴极基板对准封接,形成场致发射电子源器件。阴极基板包括衬底基片、设置于衬底基片上的阴极电极阵列以及设置于阴极电极上的电子发射层;阳极基板包括透明导电基片、设置于透明基片上的图形化障壁层、设置于相邻障壁层内的荧光粉层和设置于透明导电基片四周的封框体,且相邻图形化障壁层的中心与所述阴极电极中心一一对应。本发明提供一种全溶液法制备场致发射电子源器件,不仅能实现大面积、柔性化、透明化和低成本,还能避免制备过程中杂质引入导致发射不稳定问题,可实现大规模工业化生产。

    一种全溶液法制备平栅极场致发射电子源器件

    公开(公告)号:CN106057608A

    公开(公告)日:2016-10-26

    申请号:CN201610386889.0

    申请日:2016-06-03

    Applicant: 福州大学

    CPC classification number: H01J9/18

    Abstract: 本发明涉及一种全溶液法制备平栅极场致发射电子源器件,采用全溶液法制备平栅极场致发射电子源的阴极基板和阳极基板,并将所述阳极基板和所述阴极基板对准封接,形成平栅极场致发射电子源器件。阴极基板包括衬底基片、设置于衬底基片上的阴极电极阵列、栅极电极阵列以及电子发射层;阳极基板包括透明导电基片、设置于透明基片上的图形化障壁层、设置于相邻障壁层内的荧光粉层和设置于透明导电基片四周的封框体,且相邻图形化障壁层的中心与所述阴极电极中心一一对应。本发明中的全溶液法制备平栅极场致发射电子源器件,不仅能实现大面积、柔性化、透明化和低成本,还能避免制备过程中杂质引入导致发射不稳定问题,可实现大规模工业化生产。

Patent Agency Ranking