公开(公告)号：CN101331545A

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200680047349.4

申请日：2006-12-06

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： D·M·布鲁尔斯 ,  J·M·A·范登伊伦比姆德 ,  F·M·A·M·范加尔

IPC: G11B7/12 ,  G11B5/41

CPC classification number: G11B7/1387

Abstract: 本发明提供用于清理近场光学扫描装置的折射元件光学面的方法和设备。使用磁性敏感的清理材料，以方便有效地清理折射元件，而不损坏该元件。如果希望的话，可以将根据本发明的方法与已知的清理方法相组合。

公开(公告)号：CN1708699A

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN200380102476.6

申请日：2003-11-03

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司 ,  纳卢克斯株式会社

Inventor： K·哈塔德 ,  P·T·朱特 ,  J·M·A·范登伊伦比姆德

IPC: G02B3/02 ,  G02B27/09 ,  G11B7/125

CPC classification number: G02B27/09 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/0955 ,  G02B27/0972 ,  G11B7/1376 ,  G11B7/1398

Abstract: 一种光束整形光学元件，采用使像差最小的非球面轮廓。根据本发明的光束整形光学元件包括入射面和出射面，这两个面在包括光轴的任意平面内都具有非圆形的横截面。根据本发明一个实施方案的光束整形光学元件，其光轴与三轴直角坐标系XYZ的Z轴重合，用数学方程式表示入射面和/或出射面，所述数学方程式包括表示非旋转对称的非球面轮廓的项、至少一个仅包含变量X的函数的校正项以及至少一个仅包含变量Y的函数的校正项。