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公开(公告)号：CN104321805A
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201380025354.5
申请日：2013-05-13
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G06T11/00
CPC classification number: G06T11/005 , A61B6/42 , A61B6/48 , G01N23/046 , G01N23/20083 , G01N23/201 , G01N2021/8822 , G01N2021/8825 , G01N2223/054 , G01T1/2907 , G06T11/006 , G06T2207/10081
Abstract: 一种方法包括获得从目标的暗场CT扫描生成的暗场信号，其中，所述暗场CT扫描至少是360度扫描。所述方法还包括对所述暗场信号进行加权。所述方法还包括对所述360度扫描上的经加权的暗场信号执行锥形束重建，从而生成体积图像数据。对于轴向锥形束CT扫描，在一个非限制性实例中，所述锥形束重建是全扫描FDK锥形束重建。对于螺旋锥形束CT扫描，在一个非限制性实例中，将所述暗场信号重新分箱到楔形几何结构，并且所述锥形束重建是全扫描孔径加权的楔形重建。对于螺旋锥形束CT扫描，在另一非限制性实例中，将所述暗场信号重新分箱到楔形几何结构，并且所述锥形束重建是全扫描角度加权的楔形重建。
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公开(公告)号：CN104582575B
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201380044199.1
申请日：2013-08-09
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
CPC classification number: G01N23/20075 , A61B6/025 , A61B6/4441 , A61B6/484 , A61B6/502 , A61B6/582 , A61B6/587 , G01N23/04 , G01N2223/323 , G21K1/067
Abstract: 本发明涉及处置差分相衬成像中的未对准。为了提供对用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的经改进的处置，提供了一种用于差分相衬成像的X射线成像系统(10)，所述X射线成像系统(10)包括差分相衬设置(12)，所述差分相衬设置(12)具有：X射线源(14)、X射线探测器(16)和光栅布置，所述光栅布置包括源光栅(18)、相位光栅(20)和分析器光栅(22)。所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。另外，所述系统包括处理单元(24)和测量系统(26)，所述测量系统(26)用于确定所述光栅中的至少一个的未对准。所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元(28)。所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为刚性X射线探测单元(30)。所述测量系统是光学测量系统，所述光学测量系统被配置为确定包括所述X射线源单元的所述差分相衬设置与所述X射线探测单元之间的未对准。另外，所述处理单元被配置为基于所确定的未对准来提供校正信号(34)。
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公开(公告)号：CN104582573A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380043436.2
申请日：2013-08-20
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
CPC classification number: A61B6/587 , A61B6/484 , A61B6/582 , A61B6/588 , A61B6/589 , G01N23/20025 , G01N23/20075 , G01N2223/643
Abstract: 本发明涉及处理用于微分相位对比成像的X射线成像系统中的错位。为了提供对用于微分相位对比成像系统中的制造和维护的预调谐和调整要求的降低，提供了一种用于微分相位对比成像的X射线成像系统(10)，其包括微分相位对比设置(12)，所述微分相位对比设置具有X射线源(14)和X射线探测器(16)、包括源光栅(20)、相位光栅(22)和分析器光栅(24)的光栅布置(18)，其中，所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。另外，提供了用于在检查中的对象与所述光栅中的至少一个之间的相对移动的移动布置、以及处理单元(32)和用于平移所述源光栅的平移布置(34)。所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供作为刚性干涉仪单元(36)，在所述刚性干涉仪单元中，所述相位光栅和所述分析器光栅平行于彼此被安装。使所述源光栅相对于所述干涉仪单元错位，使得在所述探测器的平面中能检测到莫尔条纹。所述处理单元被配置为在X射线辐射后由所述探测器提供的信号中检测莫尔图样。所述处理单元还被配置为计算平移信号(38)，所述平移信号用于平移所述源光栅以实现预定的莫尔图样。所述平移布置被配置为基于所述平移信号的值至少在X射线投影方向(30)上调整所述源光栅的定位。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104519799B
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：CN201380041851.4
申请日：2013-07-29
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: A61B6/00
CPC classification number: A61B6/583 , A61B5/085 , A61B6/032 , A61B6/0407 , A61B6/463 , A61B6/467 , A61B6/469 , A61B6/50 , A61B6/5205 , A61B6/5217 , A61B6/5235
Abstract: 一种成像系统(10)分析患者的气道。所述系统(10)包括硬件体模(50)，所述硬件体模包括表示气道的多个管(54)。所述管(54)包括不同的管腔尺寸和/或壁厚度。所述系统还包括成像扫描器(12)，所述成像扫描器用于扫描包括所述气道的感兴趣区域(ROI)和所述硬件体模(50)以创建原始图像数据。至少一个处理器(32)被编程以进行以下中的至少一项：(1)基于所述管(54)的管腔尺寸和/或壁厚度的测量结果与所述管(54)的已知管腔尺寸和/或壁厚度来校正所述气道的壁的测量结果；以及(2)生成所述ROI的图像，在所述ROI的所述图像中，所述气道的颜色和/或不透明度是基于所述管(54)的图像或绘图与所述气道的图像或绘图的比较的。还提供了对应的方法。
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公开(公告)号：CN105828716A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201480069101.2
申请日：2014-12-03
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
CPC classification number: A61B6/484 , A61B6/03 , A61B6/06 , A61B6/4291 , A61B6/502 , A61B6/585 , A61B6/587 , G21K1/04 , G21K2207/005
Abstract: 一种相位衬度成像装置(MA)和有关的图像处理方法。所述成像装置包括：可移动臂(AR)，其承载探测器(D)；以及，一个或多个干涉仪光栅(G0、G1、G2)。所述成像装置包括硬化器(RGD)，其用于控制至少所述臂(AR)或用于所述光栅(G0、G1、G2)的安装物(GM)的硬度。这允许控制在读出结果的序列中探测到的莫尔图案的漂移。通过使用所述图像处理方法，如此控制的莫尔图案的相位能够被用于校准所述成像装置。
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公开(公告)号：CN105828716B
公开(公告)日：2019-05-10
申请号：CN201480069101.2
申请日：2014-12-03
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 一种相位衬度成像装置(MA)和有关的图像处理方法。所述成像装置包括：可移动臂(AR)，其承载探测器(D)；以及，一个或多个干涉仪光栅(G0、G1、G2)。所述成像装置包括硬化器(RGD)，其用于控制至少所述臂(AR)或用于所述光栅(G0、G1、G2)的安装物(GM)的硬度。这允许控制在读出结果的序列中探测到的莫尔图案的漂移。通过使用所述图像处理方法，如此控制的莫尔图案的相位能够被用于校准所述成像装置。
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公开(公告)号：CN104582573B
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201380043436.2
申请日：2013-08-20
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 本发明涉及处理用于微分相位对比成像的X射线成像系统中的错位。为了提供对用于微分相位对比成像系统中的制造和维护的预调谐和调整要求的降低，提供了一种用于微分相位对比成像的X射线成像系统(10)，其包括微分相位对比设置(12)，所述微分相位对比设置具有X射线源(14)和X射线探测器(16)、包括源光栅(20)、相位光栅(22)和分析器光栅(24)的光栅布置(18)，其中，所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。另外，提供了用于在检查中的对象与所述光栅中的至少一个之间的相对移动的移动布置、以及处理单元(32)和用于平移所述源光栅的平移布置(34)。所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供作为刚性干涉仪单元(36)，在所述刚性干涉仪单元中，所述相位光栅和所述分析器光栅平行于彼此被安装。使所述源光栅相对于所述干涉仪单元错位，使得在所述探测器的平面中能检测到莫尔条纹。所述处理单元被配置为在X射线辐射后由所述探测器提供的信号中检测莫尔图样。所述处理单元还被配置为计算平移信号(38)，所述平移信号用于平移所述源光栅以实现预定的莫尔图样。所述平移布置被配置为基于所述平移信号的值至少在X射线投影方向(30)上调整所述源光栅的定位。
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公开(公告)号：CN104582575B8
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201380044199.1
申请日：2013-08-09
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
CPC classification number: G01N23/20075 , A61B6/025 , A61B6/4441 , A61B6/484 , A61B6/502 , A61B6/582 , A61B6/587 , G01N23/04 , G01N2223/323 , G21K1/067
Abstract: 本发明涉及处置差分相衬成像中的未对准。为了提供对用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的经改进的处置，提供了一种用于差分相衬成像的X射线成像系统(10)，所述X射线成像系统(10)包括差分相衬设置(12)，所述差分相衬设置(12)具有：X射线源(14)、X射线探测器(16)和光栅布置，所述光栅布置包括源光栅(18)、相位光栅(20)和分析器光栅(22)。所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。另外，所述系统包括处理单元(24)和测量系统(26)，所述测量系统(26)用于确定所述光栅中的至少一个的未对准。所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元(28)。所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为刚性X射线探测单元(30)。所述测量系统是光学测量系统，所述光学测量系统被配置为确定包括所述X射线源单元的所述差分相衬设置与所述X射线探测单元之间的未对准。另外，所述处理单元被配置为基于所确定的未对准来提供校正信号(34)。
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