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公开(公告)号:CN114590790B
公开(公告)日:2023-12-15
申请号:CN202111472010.1
申请日:2021-12-06
Applicant: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
IPC: C01B32/05
Abstract: 本发明公开了一种氮掺杂碳材料,所述氮掺杂碳材料的空间群为Fd‑3c,晶格参数a=b=c=1.10592nm±0.5%。本发明还公开了上述氮掺杂碳材料的制备方法。通过将三聚氯氰和NH2NH2设置为主要材料,因其材料成本较低,制备过程产生的废液较少,同时制备工艺简单,易于大批量生产。
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公开(公告)号:CN114293259A
公开(公告)日:2022-04-08
申请号:CN202111472054.4
申请日:2021-12-06
Applicant: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
Abstract: 本发明公开了一种氮化硼晶体,所述氮化硼晶体的空间群为IM‑3,晶格参数a=b=c=14.034(±0.5%),晶体结构是具有大直径纳米孔的拓扑结构。该氮化硼晶体物理特性较好。本发明还提供上述氮化硼晶体的制备方法,废液产生率低,过程中杂质少,且原料丰富,成本低。
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公开(公告)号:CN114590790A
公开(公告)日:2022-06-07
申请号:CN202111472010.1
申请日:2021-12-06
Applicant: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
IPC: C01B32/05
Abstract: 本发明公开了一种氮掺杂碳材料,所述氮掺杂碳材料的空间群为Fd‑3c,晶格参数a=b=c=1.10592nm±0.5%。本发明还公开了上述氮掺杂碳材料的制备方法。通过将三聚氯氰和NH2NH2设置为主要材料,因其材料成本较低,制备过程产生的废液较少,同时制备工艺简单,易于大批量生产。
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