具有PNP穿通三极管的沟槽栅IGBT器件

    公开(公告)号:CN110277443B

    公开(公告)日:2021-02-12

    申请号:CN201910573313.9

    申请日:2019-06-28

    Abstract: 本发明属于功率半导体技术领域,具体涉及一种具有PNP穿通三极管的沟槽栅IGBT器件,本发明在分立浮空pbody区内对称的沟槽介质层之间,通过P型第二集电区、N型第二基区与分立浮空pbody区形成PNP穿通型三极管;器件正向导通时,PNP三极管不发生穿通,并储存空穴增强电导调制,由N+多晶硅、P+多晶硅形成的二极管进一步减小泄露电流;关断时PNP三极管穿通,提供空穴泄放通道,降低关断时间,提高P‑base区域抗闩锁能力;同时沟槽介质层避免了PNP三极管发生闩锁,达到在不影响其他电学特性的情况下,降低了开关时间和开关损耗;器件处于阻断状态下,PNP三极管穿通,增加了器件耐压能力。

    具有PNP穿通三极管的IGBT器件

    公开(公告)号:CN110265477B

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN201910572446.4

    申请日:2019-06-28

    Abstract: 本发明属于功率半导体技术领域,具体涉及一种具有PNP穿通三极管的IGBT器件,P型第二集电区、N型第二基区与分立浮空Pbody区形成PNP三极管结构;器件正向导通时,PNP三极管结构不导通,并储存空穴增强电导调制,并通过在金属电极上串联的二极管进一步减小泄露电流;关断时PNP三极管穿通提供空穴泄放通道,降低关断时间,达到在不影响其他电学特性的情况下,降低了开关时间和开关损耗;器件处于阻断状态下,PNP三极管穿通,增加了器件耐压能力。

    具有PNP穿通三极管的IGBT器件

    公开(公告)号:CN110265477A

    公开(公告)日:2019-09-20

    申请号:CN201910572446.4

    申请日:2019-06-28

    Abstract: 本发明属于功率半导体技术领域,具体涉及一种具有PNP穿通三极管的IGBT器件,P型第二集电区、N型第二基区与分立浮空Pbody区形成PNP三极管结构;器件正向导通时,PNP三极管结构不导通,并储存空穴增强电导调制,并通过在金属电极上串联的二极管进一步减小泄露电流;关断时PNP三极管穿通提供空穴泄放通道,降低关断时间,达到在不影响其他电学特性的情况下,降低了开关时间和开关损耗;器件处于阻断状态下,PNP三极管穿通,增加了器件耐压能力。

    具有SCR结构的IGBT器件
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110148628A

    公开(公告)日:2019-08-20

    申请号:CN201910573447.0

    申请日:2019-06-28

    Abstract: 本发明属于功率半导体技术领域,具体涉及一种具有SCR结构的IGBT器件,本发明通过在分立浮空Pbody区内使第一N型区、P型区、第二N型区与P+浮空Pbody区形成SCR结构,器件正向导通时,SCR结构不导通,并储存空穴增强电导调制,并通过金属电极串联二极管进一步降低泄露电流;关断时提供空穴泄放通道,降低关断时间,达到在不影响其他电学特性的情况下,降低了开关时间和开关损耗;器件处于阻断状态下,SCR结构穿通,增加了器件耐压能力。

    具有SCR结构的IGBT器件
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110148628B

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN201910573447.0

    申请日:2019-06-28

    Abstract: 本发明属于功率半导体技术领域,具体涉及一种具有SCR结构的IGBT器件,本发明通过在分立浮空Pbody区内使第一N型区、P型区、第二N型区与P+浮空Pbody区形成SCR结构,器件正向导通时,SCR结构不导通,并储存空穴增强电导调制,并通过金属电极串联二极管进一步降低泄漏电流;关断时提供空穴泄放通道,降低关断时间,达到在不影响其他电学特性的情况下,降低了开关时间和开关损耗;器件处于阻断状态下,SCR结构穿通,增加了器件耐压能力。

    具有PNP穿通三极管的沟槽栅IGBT器件

    公开(公告)号:CN110277443A

    公开(公告)日:2019-09-24

    申请号:CN201910573313.9

    申请日:2019-06-28

    Abstract: 本发明属于功率半导体技术领域,具体涉及一种具有PNP穿通三极管的沟槽栅IGBT器件,本发明在分立浮空pbody区内对称的沟槽介质层之间,通过P型第二集电区、N型第二基区与分立浮空pbody区形成PNP穿通型三极管;器件正向导通时,PNP三极管不发生穿通,并储存空穴增强电导调制,由N+多晶硅、P+多晶硅形成的二极管进一步减小泄露电流;关断时PNP三极管穿通,提供空穴泄放通道,降低关断时间,提高P-base区域抗闩锁能力;同时沟槽介质层避免了PNP三极管发生闩锁,达到在不影响其他电学特性的情况下,降低了开关时间和开关损耗;器件处于阻断状态下,PNP三极管穿通,增加了器件耐压能力。

    具有SCR结构的沟槽栅IGBT器件

    公开(公告)号:CN110277444B

    公开(公告)日:2021-02-12

    申请号:CN201910574377.0

    申请日:2019-06-28

    Abstract: 本发明属于功率半导体技术领域,具体涉及一种具有SCR结构的沟槽栅IGBT器件,本发明在分立浮空Pbody区内的对称沟槽介质层之间,通过P型区、第一N型区、第二N型区与分立浮空Pbody区形成SCR结构;器件正向导通时,SCR结构不导通,并存储空穴增强电导调制,并在金属电极串联二极管,进一步减小泄露电流;关断时提供空穴泄放通道,降低关断时间,达到在不影响其他电学特性的情况下,降低了开关时间和开关损耗;器件处于阻断状态下,SCR结构穿通,增加了器件耐压能力。

    具有SCR结构的沟槽栅IGBT器件

    公开(公告)号:CN110277444A

    公开(公告)日:2019-09-24

    申请号:CN201910574377.0

    申请日:2019-06-28

    Abstract: 本发明属于功率半导体技术领域,具体涉及一种具有SCR结构的沟槽栅IGBT器件,本发明在分立浮空Pbody区内的对称沟槽介质层之间,通过P型区、第一N型区、第二N型区与分立浮空Pbody区形成SCR结构;器件正向导通时,SCR结构不导通,并存储空穴增强电导调制,并在金属电极串联二极管,进一步减小泄露电流;关断时提供空穴泄放通道,降低关断时间,达到在不影响其他电学特性的情况下,降低了开关时间和开关损耗;器件处于阻断状态下,SCR结构穿通,增加了器件耐压能力。

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