公开(公告)号：CN113032967A

公开(公告)日：2021-06-25

申请号：CN202110225272.1

申请日：2021-03-01

Applicant: 电子科技大学

Inventor： 刘頔威 ,  冉达 ,  王维

IPC: G06F30/20 ,  G06F111/06

Abstract: 本发明涉及一种磁控电子光学系统的磁场拟合方法，更具体地说，针对已知磁控电子光学系统的轴向磁场分布，运用特定线圈模型在三维仿真软件中对其全空间磁场进行准确拟合建模的方法。其特点包含S1：确定线圈类型；S2：线圈建模；S3：优化算法；S4：误差计算；S5：分析结果。本发明以线圈组模型参数以及各个线圈的电流为设计变量，以磁控电子光学系统的真实轴向磁场分布为目标进行设计优化，采用了多种技术手段分步骤进行，本发明设计优化的线圈模型拟合出的磁场与真实磁场的误差为0.08％，所求得的线圈磁场模型能高度还原实验磁场，基本可以解决在三维仿真环境中对磁控电子光学系统的三维磁场建模的问题。

公开(公告)号：CN113032967B

公开(公告)日：2022-10-21

申请号：CN202110225272.1

申请日：2021-03-01

Applicant: 电子科技大学

Inventor： 刘頔威 ,  冉达 ,  王维

IPC: G06F30/20 ,  G06F111/06

Abstract: 本发明涉及一种磁控电子光学系统的磁场拟合方法，更具体地说，针对已知磁控电子光学系统的轴向磁场分布，运用特定线圈模型在三维仿真软件中对其全空间磁场进行准确拟合建模的方法。其特点包含S1：确定线圈类型；S2：线圈建模；S3：优化算法；S4：误差计算；S5：分析结果。本发明以线圈组模型参数以及各个线圈的电流为设计变量，以磁控电子光学系统的真实轴向磁场分布为目标进行设计优化，采用了多种技术手段分步骤进行，本发明设计优化的线圈模型拟合出的磁场与真实磁场的误差为0.08％，所求得的线圈磁场模型能高度还原实验磁场，基本可以解决在三维仿真环境中对磁控电子光学系统的三维磁场建模的问题。