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公开(公告)号：CN101772829A
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200880101772.7
申请日：2008-07-08
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/265
CPC classification number: H01L21/2236
Abstract: 一种用于处理系统的平台包括第一热区和第二热区，第一热区和第二热区由至少一个边界分隔。第一流体导管位于第一热区中。第二流体导管位于第二热区中。流体储藏器具有耦接至第一流体导管的第一输出和耦接至第二流体导管的第二输出。流体储藏器向第一流体导管提供具有第一流体条件的流体，缘此向第一热区提供第一热导，且流体储藏器向第二流体导管提供具有第二流体条件的流体，缘此向第二热区提供第二热导，以便在平台中达成预定热导轮廓。
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