-
公开(公告)号:CN107924805A
公开(公告)日:2018-04-17
申请号:CN201680049111.9
申请日:2016-08-17
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Abstract: 一种离子束装置的气体喷射系统,所述气体喷射系统包括:提取板;提取孔,形成于提取板中以使离子束能够通过;第一气体分配器,可移除地固定至提取孔的第一侧上的提取板,第一气体分配器中形成有气体孔口;第二气体分配器,可移除地固定至提取孔的与第一侧相对的第二侧上的提取板,第二气体分配器中形成有气体孔口;第一气体导管,在第一气体分配器与安装至提取板的气体歧管之间延伸贯穿提取板;及第二气体导管,在第二气体分配器气体歧管之间延伸贯穿提取板;以及被连接至气体歧管的残留物移除气体源。
-
公开(公告)号:CN107924805B
公开(公告)日:2019-08-27
申请号:CN201680049111.9
申请日:2016-08-17
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Abstract: 一种离子束装置的气体喷射系统,所述气体喷射系统包括:提取板;提取孔,形成于提取板中以使离子束能够通过;第一气体分配器,可移除地固定至提取孔的第一侧上的提取板,第一气体分配器中形成有气体孔口;第二气体分配器,可移除地固定至提取孔的与第一侧相对的第二侧上的提取板,第二气体分配器中形成有气体孔口;第一气体导管,在第一气体分配器与安装至提取板的气体歧管之间延伸贯穿提取板;及第二气体导管,在第二气体分配器与气体歧管之间延伸贯穿提取板;以及被连接至气体歧管的残留物移除气体源。本发明也提供一种对衬底施加残留物移除气体的方法。
-