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公开(公告)号：CN112625274A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN202011052793.3
申请日：2020-09-29
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: C08J5/18 , C08L33/08 , C08L63/00 , C08K13/06 , C08K9/04 , C08K3/36 , C08K7/18 , C08K3/08 , C08K5/544 , C08K3/04 , C08K5/00 , C08K5/3467 , B32B27/36 , B32B27/06 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B27/32 , B32B27/08 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种保护膜形成用膜，利用保护膜的波长2000～3200nm(其中，不包括2701～2999nm)下的吸光度的最大值Xmax与保护膜的150℃下的比热S150，并通过Z150＝Xmax/S150计算出的Z150为0.12以上，利用所述Xmax与保护膜的200℃下的比热S200，并通过Z200＝Xmax/S200计算出的Z200为0.11以上。本发明还提供一种保护膜形成用复合片，其具备支撑片与设置在所述支撑片的一个面上的所述保护膜形成用膜。
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公开(公告)号：CN119744052A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411334817.2
申请日：2024-09-24
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明涉及保护膜形成膜，其用于在通过对工件进行加工而得到的工件加工物的任一位置形成保护膜，当保护膜形成膜为固化性时，保护膜形成膜的固化物的420~700nm的全波长范围的光的反射率为22%以上，且所述固化物的波长532nm及1064nm中的任意一者或两者的光的吸收率为7%以上，当保护膜形成膜为非固化性时，保护膜形成膜的420~700nm的全波长范围的光的反射率为22%以上，且所述保护膜形成膜的波长532nm及1064nm中的任意一者或两者的光的吸收率为7%以上。由此，可提供即使为用于使带保护膜的工件加工物在白色基板上不显眼的光反射率高的保护膜，也能够充分地对保护膜施加深色的印字的保护膜形成膜。
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公开(公告)号：CN118617827A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410259330.6
申请日：2024-03-07
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明的课题在于将重面剥离膜(12)从为重面剥离膜(12)/树脂膜形成膜(11)/轻面剥离膜(13)的层叠片的树脂膜形成用片(10)剥离后，在确认确实进行剥离时避免辨识错误。解决手段为，本发明的树脂膜形成用片(10)具有用以形成树脂膜的树脂膜形成膜(11)、设置在所述树脂膜形成膜的一面的重面剥离膜(12)及设置在所述树脂膜形成膜的另一面的轻面剥离膜(13)，将重面剥离膜(12)的从树脂膜形成膜(11)的剥离力设为F1、轻面剥离膜(13)的从树脂膜形成膜(11)的剥离力设为F2时，满足F1＞F2的关系，重面剥离膜(12)满足555nm的透光率为80％以下及雾度为4％以上中的任一者或两者。
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公开(公告)号：CN115820168A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211110452.6
申请日：2022-09-13
Applicant: 琳得科株式会社
Inventor： 野岛一马
IPC: C09J133/00 , C09J133/12 , C09J133/08 , C09J163/02 , C09J163/00 , C09J11/04 , C09J11/06 , C09J11/08 , C09J7/10 , C09J7/20 , H01L33/58 , H01L33/48
Abstract: 一种保护膜形成膜，当所述保护膜形成膜为固化性时，所述保护膜形成膜的固化物的400～700nm整个波长范围的光的反射率为20％以上，当所述保护膜形成膜为非固化性时，所述保护膜形成膜的400～700nm整个波长范围的光的反射率为20％以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115109284A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210102491.5
申请日：2022-01-27
Applicant: 琳得科株式会社
Inventor： 野岛一马
Abstract: 一种保护膜形成膜，针对所述保护膜形成膜，进行以空出30mm的间隔的方式把持作为多片所述保护膜形成膜的层叠物的试验片的两处，在所述两处之间将所述试验片沿与其表面平行的方向、以1000mm/分钟的速度拉伸，并测定所述试验片中产生的应力与所述试验片在其拉伸方向上的应变的拉伸试验时，所述应力最初成为0.1N/mm2时的所述应变为0.5％以上，所述应力最初成为0.6N/mm2时的所述应变为200％以下。
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公开(公告)号：CN114075419A
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202110737279.1
申请日：2021-06-30
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: C09J7/40
Abstract: 本发明提供一种保护膜形成用片及加工该保护膜形成用片的方法，所述保护膜形成用片即使在使用切割刀片切出保护膜形成膜的情况下，保护膜形成膜与支撑膜之间的浮起的形成也得以抑制。所述保护膜形成用片具有保护膜形成膜、与以可剥离的方式配置于保护膜形成膜的一个主面上的第一剥离膜，23℃下的保护膜形成膜的探针粘性值小于6200mN，23℃下的第一剥离膜的与保护膜形成膜相接的面的表面弹性模量为17MPa以下，探针粘性值与表面弹性模量之积为66000以下。
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公开(公告)号：CN112625274B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202011052793.3
申请日：2020-09-29
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: C08J5/18 , C08L33/08 , C08L63/00 , C08K13/06 , C08K9/04 , C08K3/36 , C08K7/18 , C08K3/08 , C08K5/544 , C08K3/04 , C08K5/00 , C08K5/3467 , B32B27/36 , B32B27/06 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B27/32 , B32B27/08 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种保护膜形成用膜，利用保护膜的波长2000～3200nm(其中，不包括2701～2999nm)下的吸光度的最大值Xmax与保护膜的150℃下的比热S150，并通过Z150＝Xmax/S150计算出的Z150为0.12以上，利用所述Xmax与保护膜的200℃下的比热S200，并通过Z200＝Xmax/S200计算出的Z200为0.11以上。本发明还提供一种保护膜形成用复合片，其具备支撑片与设置在所述支撑片的一个面上的所述保护膜形成用膜。
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公开(公告)号：CN115109370A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210102767.X
申请日：2022-01-27
Applicant: 琳得科株式会社
Inventor： 野岛一马
IPC: C08L33/08 , C08L63/00 , C08K9/04 , C08K7/18 , C08J5/18 , B32B27/08 , B32B27/06 , B32B27/36 , B32B27/32 , B32B27/30 , B32B27/40 , B32B27/38 , B32B27/18 , B32B27/20 , B32B27/28 , B32B27/00 , B32B7/12 , H01L21/56 , H01L23/31
Abstract: 本发明提供一种保护膜形成膜，其为热固性的保护膜形成膜，其中，以空出20mm的间隔的方式把持为多片所述保护膜形成膜的层叠体的宽4mm的试验片的两处，并在拉伸模式下，以频率为11Hz、升温速度为3℃/分钟、且等速升温的条件，边将所述试验片由‑10℃升温至170℃，边测定所述试验片的储能模量E’，此时在160℃～170℃的整个温度区域中，所述试验片的储能模量E’为1MPa以上。
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