公开(公告)号：CN112625276A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN202011053038.7

申请日：2020-09-29

Applicant: 琳得科株式会社

Inventor： 薄刃美玲 ,  米山裕之

IPC: C08J5/18 ,  C08L33/08 ,  C08L63/00 ,  C08K13/06 ,  C08K9/04 ,  C08K3/36 ,  C08K7/18 ,  C08K3/08 ,  C08K5/544 ,  C08K3/04 ,  C08K5/00 ,  C08K5/3467 ,  B32B27/36 ,  B32B27/06 ,  B32B7/06 ,  B32B7/12 ,  B32B27/32 ,  B32B27/08 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种保护膜形成用膜，其利用保护膜的波长2000～3200nm(其中，不包括2701～2999nm)下的吸光度的最小值Xmin与保护膜的100℃下的比热S100，并通过Z100＝Xmin/S100计算出的Z100为0.27以下。本发明还提供一种保护膜形成用复合片，其具备支撑片与设置在所述支撑片的一个面上的所述保护膜形成用膜。

公开(公告)号：CN112625276B

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202011053038.7

申请日：2020-09-29

Applicant: 琳得科株式会社

Inventor： 薄刃美玲 ,  米山裕之

IPC: C08J5/18 ,  C08L33/08 ,  C08L63/00 ,  C08K13/06 ,  C08K9/04 ,  C08K3/36 ,  C08K7/18 ,  C08K3/08 ,  C08K5/544 ,  C08K3/04 ,  C08K5/00 ,  C08K5/3467 ,  B32B27/36 ,  B32B27/06 ,  B32B7/06 ,  B32B7/12 ,  B32B27/32 ,  B32B27/08 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种保护膜形成用膜，其利用保护膜的波长2000～3200nm(其中，不包括2701～2999nm)下的吸光度的最小值Xmin与保护膜的100℃下的比热S100，并通过Z100＝Xmin/S100计算出的Z100为0.27以下。本发明还提供一种保护膜形成用复合片，其具备支撑片与设置在所述支撑片的一个面上的所述保护膜形成用膜。