公开(公告)号：CN107488852B

公开(公告)日：2019-07-12

申请号：CN201710768090.2

申请日：2017-08-31

Applicant: 燕山大学

Inventor： 战再吉 ,  杜凤彪 ,  曹海要 ,  王振春

IPC: C23C24/10 ,  B22F1/00 ,  C22C30/02 ,  C22C32/00

Abstract: 本发明公开了一种激光熔覆原位合成陶瓷相增强铜基熔覆层的制备方法，涉及激光增材制造技术领域，包括以下步骤：首先，对基体进行预处理；然后，采用同步送粉激光熔覆的方式，将原料按照反应方程式摩尔比例配比后进行充分混合并干燥后作为熔覆材料；最后，在氩气的保护下，调节激光熔覆工艺参数，熔覆材料在激光束作用下原位反应生成三相陶瓷复合涂层，并且与纯铜基体呈现良好的冶金结合。本发明激光熔覆原位合成陶瓷相增强铜基熔覆层的制备方法所制备的铜基熔覆层组织致密，无气孔和裂纹，显微硬度值HV0.2600以上，在激光增材制造技术领域具有很好的应用前景。

公开(公告)号：CN107488852A

公开(公告)日：2017-12-19

申请号：CN201710768090.2

申请日：2017-08-31

Applicant: 燕山大学

Inventor： 战再吉 ,  杜凤彪 ,  曹海要 ,  王振春

IPC: C23C24/10 ,  B22F1/00 ,  C22C30/02 ,  C22C32/00

CPC classification number: C23C24/103 ,  B22F1/0003 ,  C22C30/02 ,  C22C32/0005

Abstract: 本发明公开了一种激光熔覆原位合成陶瓷相增强铜基熔覆层的制备方法，涉及激光增材制造技术领域，包括以下步骤：首先，对基体进行预处理；然后，采用同步送粉激光熔覆的方式，将原料按照反应方程式摩尔比例配比后进行充分混合并干燥后作为熔覆材料；最后，在氩气的保护下，调节激光熔覆工艺参数，熔覆材料在激光束作用下原位反应生成三相陶瓷复合涂层，并且与纯铜基体呈现良好的冶金结合。本发明激光熔覆原位合成陶瓷相增强铜基熔覆层的制备方法所制备的铜基熔覆层组织致密，无气孔和裂纹，显微硬度值HV0.2600以上，在激光增材制造技术领域具有很好的应用前景。