乱层石墨结构B0.4~0.6C0.1~0.3N0.1~0.3化合物及其化学法制备

    公开(公告)号:CN1397486A

    公开(公告)日:2003-02-19

    申请号:CN02104857.6

    申请日:2002-02-15

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明涉及一种乱层石墨结构B0.4~0.6C0.1~0.3N0.1~0.3化合物及其化学制备方法。这种乱层石墨结构B0.4~0.6C0.1~0.3N0.1~0.3化合物具有乱层石墨结构,其化学成分为:B40~60%、C10-30%、N10-30%。本发明可以提供一种高硼含量B0.4~0.6C0.1~0.3N0.1~0.3化合物及其制备方法,这种化合物可以作为高温高压、冲击合成等方法合成高硼含量B0.4~0.6C0.1~0.3N0.1~0.3晶体的前驱物或制备高硼含量B0.4~0.6C0.1~0.3N0.1~0.3功能薄膜用的靶材。

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