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公开(公告)号:CN110988402B
公开(公告)日:2022-12-16
申请号:CN201911219275.3
申请日:2019-12-03
Applicant: 湘潭大学
Abstract: 本发明公开了一种多重服役条件下柔性铁电薄膜的PFM检测方法,包括:将柔性铁电薄膜与导电弯曲载台装配,形成弯曲服役柔性铁电薄膜;将弯曲服役柔性铁电薄膜与温控载台装配,形成双重服役柔性铁电薄膜;将双重服役柔性铁电薄膜与高压载台装配,形成多重服役柔性铁电薄膜;利用PFM检测多重服役柔性铁电薄膜的性能。本方法采用PFM作为观测手段,操作方便,可无损观测到样品纳米级的畴结构和电学性能,为柔性铁电薄膜的微观作用机制提供了可靠的研究手段;将PFM仪器中温控载台与高压载台进行了组装与联用,使仪器既可以在高温下,又可以在高压下测量柔性铁电薄膜的性能,为铁电存储器在高温环境下的工作状态提供实验依据。
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公开(公告)号:CN109256420A
公开(公告)日:2019-01-22
申请号:CN201811131091.7
申请日:2018-09-27
Applicant: 湘潭大学
IPC: H01L29/51 , H01L29/78 , H01L29/786 , H01L21/34
Abstract: 本发明公开了一种柔性透明氧化铪基铁电薄膜晶体管及其制备方法,其中,该晶体管包括柔性衬底、底栅电极、氧化铪基铁电薄膜层、氧化物半导体有源层和均设置于顶层的源电极和漏电极,该制备方法包括:制备柔性衬底且由下至上依次在柔性衬底上制备底栅电极、铁电薄膜层、氧化物半导体有源层、源电极和漏电极,得到柔性透明氧化铪基铁电薄膜晶体管。这种晶体管结构简单,多次弯曲后依然可以正常工作,其制备方法工艺简单,成本低廉,可用于电子平板显示领域及可延展性柔性器件领域,具有良好的应用前景。
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公开(公告)号:CN110988402A
公开(公告)日:2020-04-10
申请号:CN201911219275.3
申请日:2019-12-03
Applicant: 湘潭大学
Abstract: 本发明公开了一种多重服役条件下柔性铁电薄膜的PFM检测方法,包括:将柔性铁电薄膜与导电弯曲载台装配,形成弯曲服役柔性铁电薄膜;将弯曲服役柔性铁电薄膜与温控载台装配,形成双重服役柔性铁电薄膜;将双重服役柔性铁电薄膜与高压载台装配,形成多重服役柔性铁电薄膜;利用PFM检测多重服役柔性铁电薄膜的性能。本方法采用PFM作为观测手段,操作方便,可无损观测到样品纳米级的畴结构和电学性能,为柔性铁电薄膜的微观作用机制提供了可靠的研究手段;将PFM仪器中温控载台与高压载台进行了组装与联用,使仪器既可以在高温下,又可以在高压下测量柔性铁电薄膜的性能,为铁电存储器在高温环境下的工作状态提供实验依据。
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公开(公告)号:CN109256420B
公开(公告)日:2020-01-03
申请号:CN201811131091.7
申请日:2018-09-27
Applicant: 湘潭大学
IPC: H01L29/51 , H01L29/78 , H01L29/786 , H01L21/34
Abstract: 本发明公开了一种柔性透明氧化铪基铁电薄膜晶体管及其制备方法,其中,该晶体管包括柔性衬底、底栅电极、氧化铪基铁电薄膜层、氧化物半导体有源层和均设置于顶层的源电极和漏电极,该制备方法包括:制备柔性衬底且由下至上依次在柔性衬底上制备底栅电极、铁电薄膜层、氧化物半导体有源层、源电极和漏电极,得到柔性透明氧化铪基铁电薄膜晶体管。这种晶体管结构简单,多次弯曲后依然可以正常工作,其制备方法工艺简单,成本低廉,可用于电子平板显示领域及可延展性柔性器件领域,具有良好的应用前景。
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