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公开(公告)号:CN118123051A
公开(公告)日:2024-06-04
申请号:CN202211531101.2
申请日:2022-12-01
Applicant: 湖南大学
Abstract: 本发明公开了一种激光直接沉积设计方法及激光直接沉积成形系统,确定初始参数;所述初始参数包括喷嘴结构参数和沉积工艺参数,所述喷嘴结构参数包括喷嘴个数、喷嘴出口直径、喷射角和喷嘴径向半径;所述沉积工艺参数包括激光功率、载运气流量、送粉率、粉末粒径、激光离焦量、粉束离焦量和扫描速度;模拟不同喷嘴结构参数和沉积工艺参数下的单粉束流粉末浓度和温度,依据单粉束流粉末浓度和温度计算所有初始参数对单粉束流粉斑尺寸、粉斑偏心距和粉末温度的敏感性因子;利用所述敏感性因子调整喷嘴结构参数和沉积工艺参数。本发明同步设计喷嘴结构参数和沉积工艺参数,使成形面上的粉末浓度和温度分布满足高速激光直接沉积要求。