过滤装置和半导体研磨设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117815769A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202311867530.1

    申请日:2023-12-29

    Abstract: 本发明涉及半导体设备技术领域,具体而言,涉及一种过滤装置和半导体研磨设备;过滤装置包括箱体、缓冲机构和沉淀机构,箱体设置有箱体入口、箱体出口、缓冲腔和沉淀腔;箱体入口与缓冲腔连通,箱体出口与沉淀腔连通,且缓冲腔和沉淀腔连通;缓冲机构设置于缓冲腔内,缓冲机构用于缓冲从箱体入口进入缓冲腔的混合介质,并引导经过缓冲的混合介质进入沉淀腔;沉淀机构设置于沉淀腔内,沉淀机构用于使进入沉淀腔的混合介质中的颗粒沉淀。该过滤装置能可靠地过滤、去除介质中的颗粒物,以减少颗粒物造成水环真空泵的损坏。

    移动装置及蚀刻设备
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN221466544U

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202322690898.7

    申请日:2023-10-08

    Abstract: 本申请提供一种移动装置及蚀刻设备,该移动装置用于移动坩埚;坩埚包括坩埚体和坩埚盖,坩埚体的外侧壁上设有沿坩埚体的周向间隔分布的多个第一吊环,坩埚盖背向坩埚体底壁的外表面上间隔设置有多个第二吊环;移动装置包括吊装组件和移动组件;其中,吊装组件包括支架和可移动连接于支架上的多个吊爪;多个吊爪被配置为,通过在支架上移动调整多个吊爪之间的相对位置,以使多个吊爪在用于吊装多个第一吊环的第一吊装状态和用于吊装多个第二吊环的第二吊装状态之间切换;移动组件与支架连接,可驱动支架带动多个吊爪升降和平移。该移动装置可避免人工搬运坩埚造成烫伤,有效提高坩埚搬运的效率;还可在生产模式和更换蚀刻液模式之间切换。

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