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公开(公告)号：CN116452686A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202310197951.1
申请日：2023-03-03
Applicant: 湖北工业大学
IPC: G06T11/00 , G06V10/762
Abstract: 本发明公开了一种基于自适应聚类和线性规划最优化选点的点画生成方法，该算法首先采用超像素预处理图像，将原图像划分为颜色接近的超像素块，减小问题处理规模。但该像素块依然存在颜色跳跃子集，进一步依据颜色密度峰值自适应聚类方法将超像素块划分为更小的像素子聚类，并用三角形手肘法验证，确保在子聚类内部颜色无明显跳跃。然后依据子聚类内部颜色均值确定生成采样半径，最后，根据图像相似度指标SSIM确定线性规划最优目标的选点模型，实验证明，在视觉效果和SSIM、PSNR评分等方面，本发明所提出的彩色点画生成算法均优于现有大部分方法，在低成本彩色/黑白打印，像素画方面有着广泛的应用。
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