半导体结构及制备方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116666382A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310928764.6

    申请日:2023-07-26

    Abstract: 本申请涉及半导体集成电路领域,由于目前深沟槽电容器的电容密度无法有效提升,因此,本申请实施例提供了一种半导体结构及制备方法,该半导体结构包括:基底,基底包括沿第一方向相对设置的第一表面和第二表面;第一电容结构,设置于第一表面且沿第一方向向基底内部延伸;第二电容结构,设置于第二表面且沿第一方向向基底内部延伸;其中,第一电容结构和第二电容结构对称设置;基底的厚度大于第一电容结构和第二电容结构在第一方向上的尺寸之和。这样,能够提高该半导体结构单位面积内的电容密度,从而使得该半导体结构可以应用于多种不同场景中。

    晶圆传送盒内气体的检测装置及检测方法

    公开(公告)号:CN117309821A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311183469.9

    申请日:2023-09-13

    Abstract: 本申请实施例提供一种晶圆传送盒内气体的检测装置及检测方法,其中,该检测装置包括:光线发射器,用于发射测试光线,测试光线用于照射晶圆传送盒中的空气;信号检测器,用于接收测试光线穿过晶圆传送盒中的空气所形成的待测光线,并确定待测光线的光强信号以及晶圆传送盒中的气体成份;控制器,与信号检测器连接,用于对光强信号进行处理,以确定气体成份中每一种气体的含量。通过本申请实施例提供的检测装置可以实现对晶圆传送盒内的环境进行侦测,从而可以及时判断出晶圆传送盒内部环境是否发生变化,并及时做出应对,减少块状缺陷的污染,提高晶圆的良率。

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