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公开(公告)号：CN101524583A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200910081468.7
申请日：2009-04-08
Applicant: 清华大学
IPC: A62D3/176 , B01J23/08 , C02F1/32 , A61L9/20 , A62D101/22 , A62D101/28 , C02F101/36
Abstract: 本发明公开了一种降解全氟取代化合物的方法，包括以下步骤：在无氧条件下，采用β－Ga2O3作为光催化剂，用波长为185－254nm的紫外光照射全氟取代化合物，使全氟取代化合物降解。本发明的降解全氟取代化合物的方法具有以下优点：工艺结构简单，在常温常压条件下进行，不需要复杂的设备；对全氟取代化合物的初始浓度没有要求，任意浓度和pH值条件下的全氟取代化合物均可以采用本发明方法进行处理；降解产物的毒性降低，易于采用其他方法进一步处理。
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