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公开(公告)号：CN108517485A
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：CN201810328522.2
申请日：2018-04-13
Applicant: 清华大学
IPC: C23C8/36
Abstract: 本发明涉及一种利用水等离子体氧化制备氧化铬涂层的方法，属于化工材料制备技术领域。本发明以水等离子体为氧化介质，氧化铬涂层在金属基体的镀铬表面进行原位生长。氧化铬涂层优选制备温度为500℃，优选制备时长为2h，优选制备气压为80Pa之。通过对比空气氧化获得的氧化铬涂层(AO)，水蒸气氧化获得的氧化铬涂层(WVO)及水等离子体氧化获得的氧化铬涂层(WPO)的表面特性及阻氢性能，表明水等离子体氧化工艺获得的涂层质量最优，性能最佳。本发明可以应用于临氢环境的储氢容器及核反应堆的结构部件，能够提高其阻氢效率。
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