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公开(公告)号:CN118837382A
公开(公告)日:2024-10-25
申请号:CN202411144557.2
申请日:2024-08-20
Applicant: 清华大学
IPC: G01N23/00
Abstract: 本发明属于辐照加工技术领域,公开一种用于非线性磁铁法与扩束法辐照加工的旋转式样品台,其中,旋转样品台包括样品台本体、动力部件和固定装置;动力部件用于驱动样品台本体旋转,动力部件与固定装置固定连接;样品台本体包括旋转样品盘和芯片压板,旋转样品盘的一侧与芯片压板可拆卸连接。本发明的动力部件驱动旋转样品盘上的样品旋转,使辐照在以样品中心为圆点的同心圆环内均匀分布,使得大尺寸样品表面的辐照剂量均匀性得到进一步的调控,可以满足多种尺寸样品的均匀性要求。