公开(公告)号：CN103091772B

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：CN201310020705.5

申请日：2013-01-21

Applicant: 清华大学

Inventor： 李宇航 ,  徐忠扬 ,  王力军

IPC: G02B6/02

CPC classification number: G03H1/0248 ,  G02B6/02085 ,  G02B6/02133 ,  G03H1/0236 ,  G03H2001/0439 ,  G03H2001/0482 ,  G03H2222/15 ,  G03H2270/20

Abstract: 本发明公开了一种制作任意反射波长超长光纤光栅的方法和装置。该方法用两束全息干涉激光以一定的夹角从光纤的一侧入射到光纤内，产生全息干涉；同时，通过一个计算机控制的电控平移台使该两束全息干涉激光沿着光纤的长度方向平移，并通过计算机控制的电控旋转台或电控平面镜架调节两束全息干涉激光的夹角。可以实现任意反射波长超长光纤光栅的写入，包括窄反射带光栅、啁啾光栅和切趾光栅等。

公开(公告)号：CN105353459B

公开(公告)日：2019-01-15

申请号：CN201510840618.3

申请日：2015-11-27

Applicant: 清华大学

Inventor： 李宇航 ,  徐忠扬 ,  王力军

IPC: G02B6/02 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种微纳光纤表面制作光栅的方法，其中，该方法包括以下步骤：提供一微纳光纤；在该微纳光纤表面涂覆一层紫外光敏功能化膜；以及使用紫外光源对该紫外光敏功能化膜进行逐点曝光。本发明提出的制作方法利用涂覆在微纳光纤表面的功能化膜，借助于薄膜材料的光敏性，利用低功率的紫外光进行曝光制备光栅。该方法不会引起石英微纳光纤的损伤，保证了微纳光纤光栅的力学性能。而且，该方法与当前通用的光纤光栅制备方法和设备完全兼容。

公开(公告)号：CN105353459A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201510840618.3

申请日：2015-11-27

Applicant: 清华大学

Inventor： 李宇航 ,  徐忠扬 ,  王力军

IPC: G02B6/02 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B6/02147 ,  G03F7/2004

Abstract: 本发明涉及一种微纳光纤表面制作光栅的方法，其中，该方法包括以下步骤：提供一微纳光纤；在该微纳光纤表面涂覆一层紫外光敏功能化膜；以及使用紫外光源对该紫外光敏功能化膜进行逐点曝光。本发明提出的制作方法利用涂覆在微纳光纤表面的功能化膜，借助于薄膜材料的光敏性，利用低功率的紫外光进行曝光制备光栅。该方法不会引起石英微纳光纤的损伤，保证了微纳光纤光栅的力学性能。而且，该方法与当前通用的光纤光栅制备方法和设备完全兼容。