公开(公告)号：CN105355543B

公开(公告)日：2017-12-22

申请号：CN201510629271.8

申请日：2015-09-29

Applicant: 淮北师范大学

Inventor： 丁光柱 ,  刘结平 ,  胡志军

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 基于蚕丝纤维的图案化半导体聚合物薄膜制备方法，主要用于制备半导体聚合物薄膜材料的微纳图案化，该方法包括：首先采用曝光技术在光刻胶薄膜表面制备所需聚合物薄膜微纳图案的互补尺寸；其次将未交联的PDMS材料涂在有图案的光刻胶薄膜表面，进行热交联处理后取下，光刻胶图案就转移到PDMS薄膜软模板的表面；再者将有微纳图案的PDMS薄膜放在蚕丝纤维水溶液上面，室温干燥处理后就可以制备有微纳结构的蚕丝纤维薄膜；最后将蚕丝纤维薄膜作为模板，利用纳米压印技术就可以实现不同半导体聚合物薄膜的图案化。该制备方法具有步骤简单、低成本、大面积和操作条件要求低等优点，尤其适用于刚性强或者室温图案化的有机半导体材料，具有良好的实际应用价值。

公开(公告)号：CN105355543A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201510629271.8

申请日：2015-09-29

Applicant: 淮北师范大学

Inventor： 丁光柱 ,  刘结平 ,  胡志军

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 基于蚕丝纤维的图案化半导体聚合物薄膜制备方法，主要用于制备半导体聚合物薄膜材料的微纳图案化，该方法包括：首先采用曝光技术在光刻胶薄膜表面制备所需聚合物薄膜微纳图案的互补尺寸；其次将未交联的PDMS材料涂在有图案的光刻胶薄膜表面，进行热交联处理后取下，光刻胶图案就转移到PDMS薄膜软模板的表面；再者将有微纳图案的PDMS薄膜放在蚕丝纤维水溶液上面，室温干燥处理后就可以制备有微纳结构的蚕丝纤维薄膜；最后将蚕丝纤维薄膜作为模板，利用纳米压印技术就可以实现不同半导体聚合物薄膜的图案化。该制备方法具有步骤简单、低成本、大面积和操作条件要求低等优点，尤其适用于刚性强或者室温图案化的有机半导体材料，具有良好的实际应用价值。