公开(公告)号：CN106463374B

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：CN201580028164.8

申请日：2015-03-30

Applicant: 浜松光子学株式会社

Inventor： 坂本刚志 ,  伊崎泰则 ,  松永麻美子

IPC: H01L21/301 ,  B23K26/064 ,  B23K26/067 ,  B23K26/53

Abstract: 激光加工装置(300)具备射出激光(L)的激光光源(202)、将激光(L)聚光于加工对象物(1)的聚光光学系统(204)、以及以激光(L)至少被分支为第1加工光以及第2加工光并且第1加工光被聚光于第1聚光点且第2加工光被聚光于第2聚光点的方式对激光(L)进行调制的反射型空间光调制器(203)。若将加工对象物(1)的表面(3)上的第1加工光的半径设为(W1)，将该表面(3)上的第2加工光的半径设为(W2)，将在从与该表面(3)垂直的方向观察的情况下的第1聚光点和第2聚光点的距离设为(D)，则反射型空间光调制器(203)以满足D＞W1+W2的方式调制激光(L)。

公开(公告)号：CN106463374A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580028164.8

申请日：2015-03-30

Applicant: 浜松光子学株式会社

Inventor： 坂本刚志 ,  伊崎泰则 ,  松永麻美子

IPC: H01L21/301 ,  B23K26/064 ,  B23K26/067 ,  B23K26/53

Abstract: 激光加工装置(300)具备射出激光(L)的激光光源(202)、将激光(L)聚光于加工对象物(1)的聚光光学系统(204)、以及以激光(L)至少被分支为第1加工光以及第2加工光并且第1加工光被聚光于第1聚光点且第2加工光被聚光于第2聚光点的方式对激光(L)进行调制的反射型空间光调制器(203)。若将加工对象物(1)的表面(3)上的第1加工光的半径设为(W1)，将该表面(3)上的第2加工光的半径设为(W2)，将在从与该表面(3)垂直的方向观察的情况下的第1聚光点和第2聚光点的距离设为(D)，则反射型空间光调制器(203)以满足D＞W1+W2的方式调制激光(L)。

公开(公告)号：CN106413974B

公开(公告)日：2018-11-16

申请号：CN201580028163.3

申请日：2015-03-30

Applicant: 浜松光子学株式会社

Inventor： 坂本刚志 ,  伊崎泰则 ,  松永麻美子

IPC: B23K26/53 ,  B23K26/066 ,  B23K26/067 ,  H01L21/301

CPC classification number: B23K26/53 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/03 ,  B23K26/046 ,  B23K26/066 ,  B23K26/067 ,  B23K26/083 ,  B23K2101/40 ,  B23K2103/50 ,  B23K2103/54 ,  C03B33/0222

Abstract: 激光加工装置(300)具备：射出激光(L)的激光光源(202)、将激光(L)聚光于加工对象物(1)的聚光光学系统(204)、对激光(L)进行调制以使激光(L)被分支成至少包含第1加工光及第2加工光的0次光及±n次光(n为自然数)并且第1加工光被聚光于第1聚光点且第2加工光被聚光于第2聚光点的反射型空间光调制器(203)、以及将被聚光于加工对象物(1)的0次光及±n次光中相对于第1加工光及第2加工光而被聚光于外侧的光遮断的光遮断部(220)。

公开(公告)号：CN106413974A

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：CN201580028163.3

申请日：2015-03-30

Applicant: 浜松光子学株式会社

Inventor： 坂本刚志 ,  伊崎泰则 ,  松永麻美子

IPC: B23K26/53 ,  B23K26/066 ,  B23K26/067 ,  H01L21/301

CPC classification number: B23K26/53 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/03 ,  B23K26/046 ,  B23K26/066 ,  B23K26/067 ,  B23K26/083 ,  B23K2101/40 ,  B23K2103/50 ,  B23K2103/54 ,  C03B33/0222

Abstract: 激光加工装置(300)具备：射出激光(L)的激光光源(202)、将激光(L)聚光于加工对象物(1)的聚光光学系统(204)、对激光(L)进行调制以使激光(L)被分支成至少包含第1加工光及第2加工光的0次光及±n次光(n为自然数)并且第1加工光被聚光于第1聚光点且第2加工光被聚光于第2聚光点的反射型空间光调制器(203)、以及将被聚光于加工对象物(1)的0次光及±n次光中相对于第1加工光及第2加工光而被聚光于外侧的光遮断的光遮断部(220)。