一种芳基硫酚衍生物的合成方法

    公开(公告)号:CN117903024B

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202410050460.9

    申请日:2024-01-12

    Abstract: 本发明公开了一种芳基硫酚衍生物的合成方法,属于有机合成技术领域。通过将芳基磺酸在溶剂中加入酰氯化试剂,得到芳基磺酰氯和副产亚磷酸的混合物,在不经过分离的情况下,直接加入催化剂和助还原剂,并升温加入作为还原剂的亚磷酸,反应结束后经分离纯化即可得到目标产物芳基硫酚衍生物。本法在反应过程中不仅无需对副产进行分离,通过“一锅两步法”即可实现高效合成,而且在反应过程中直接对作为还原剂的副产进行再利用,生产安全性高、成本低廉、收率高,对环境友好,反应条件温和,特别适用于大规模工业化生产应用。

    一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法、应用

    公开(公告)号:CN117742074A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202311776701.X

    申请日:2023-12-21

    Abstract: 本发明公开了一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法、应用,属于高分子化学材料技术领域。本发明所提供的双光子光刻胶,包括二硫键丙烯酸酯、活性交联剂、长波长双光子引发剂、单光子光碱剂,以及作为休眠还原剂的二硫苏糖醇和作为溶剂的N,N二甲基甲酰胺,实现在首次飞秒加工增材制造的基础上,进一步利用另一束低能量连续405nm激光进行减材加工,在连续激光作用下,单光子光碱剂分解并释放碱性物质,将二硫苏糖醇去质子化,并还原打开二硫键丙烯酸酯中的二硫键,从而将已经交联固化的光刻胶分解,并在显影时去除,达成二次雕刻的目的。同时该双光子光刻胶可在碱性水溶液中快速、简易地去除,绿色环保,去胶率可达100%。

    一种二苯基氯化膦的合成方法

    公开(公告)号:CN110218226A

    公开(公告)日:2019-09-10

    申请号:CN201910599557.4

    申请日:2019-07-02

    Abstract: 本发明公开了一种二苯基氯化膦的合成方法,属于化学合成技术领域,解决了现有制备二苯基氯化磷产品收率低等问题,一种二苯基氯化膦的合成方法,其特征在于,包括以下步骤:在干燥氮气保护下,打开搅拌,向反应器中加入苯、三氯化磷及催化剂,升温至50-80℃,在50-80℃下回流反应2-3h;步骤S01反应完成后继续升温至85-200℃,在85-200℃下进行回流反应;步骤S02反应结束待反应器降温后,向反应器中补加苯,再加入解络剂,搅拌至解络剂溶解后蒸馏脱除溶剂苯,然后进行真空减压蒸馏,得到前馏分和后馏分。本发明具有产品收率高等优点。

    一种芳基硫酚衍生物的合成方法

    公开(公告)号:CN117903024A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202410050460.9

    申请日:2024-01-12

    Abstract: 本发明公开了一种芳基硫酚衍生物的合成方法,属于有机合成技术领域。通过将芳基磺酸在溶剂中加入酰氯化试剂,得到芳基磺酰氯和副产亚磷酸的混合物,在不经过分离的情况下,直接加入催化剂和助还原剂,并升温加入作为还原剂的亚磷酸,反应结束后经分离纯化即可得到目标产物芳基硫酚衍生物。本法在反应过程中不仅无需对副产进行分离,通过“一锅两步法”即可实现高效合成,而且在反应过程中直接对作为还原剂的副产进行再利用,生产安全性高、成本低廉、收率高,对环境友好,反应条件温和,特别适用于大规模工业化生产应用。

    一种对氰基苯甲酰氯的制备方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117903000A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202410051314.8

    申请日:2024-01-12

    Abstract: 本发明公开了一种对氰基苯甲酰氯的制备方法,属于有机合成领域。它通过碱将对苯二甲酸酯(I)水解,得到对苯二甲酸单酯(II),再将对苯二甲酸单酯(II)与氨进行胺解反应,得到对苯二甲酸单酰胺(III),最后将对苯二甲酸单酰胺(III)与氯化剂反应,得到目标产物对氰基苯甲酰氯(IV),其中原料采用了廉价易得的对苯二甲酸酯,大大降低了成本,且反应路线短,仅需三步反应即可得到含量98%的对氰基苯甲酰氯,易于操作,无需高温高压和剧毒原料,反应过程中产生三废少,绿色环保,易于回收反应过程中产生的副产物,适用于工业化生产。#imgabs0#

    一种高折射率双光子光刻胶组合物及其制备方法、应用

    公开(公告)号:CN117590693A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202311691159.8

    申请日:2023-12-08

    Abstract: 本发明公开了一种高折射率双光子光刻胶组合物及其制备方法、应用,属于高分子化学材料技术领域。本发明通过将双光子光引发剂、高折射率单体与活性单体混合,再选择混合光固化树脂、添加剂和阻聚剂的方法制备;采用引入高折射率单体解决双光子光刻胶与直写系统折射率不匹配导致的焦斑质量降低的问题,实现光刻胶的折射率可调,从而提高加工精度。本发明还通过引入具有低黄变的双光子光引发剂和具有抗老化效果的添加剂,从而得到具有低黄变的高折射率飞秒激光直写双光子光刻胶,应用于复杂微纳结构、微透镜、光子晶体等诸多基于双光子直写的光学器件的微纳制造。

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