一种弯液面限域电沉积制备孪晶增强镀层的方法及其产品

    公开(公告)号:CN119800465A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202510020163.4

    申请日:2025-01-07

    Abstract: 本发明公开了一种弯液面限域电沉积制备孪晶增强镀层的方法及其产品,涉及材料科学和电化学技术领域,方法包括:步骤1、对硅片依次进行预处理和等离子体处理;步骤2、制备金属盐和酸的混合溶液作为电解液,将电解液转移至3D直写打印装置中带有喷嘴的微针管内部,将阳极浸入微针管内部电解液中,等离子体处理后的硅片作为阴极,阳极与阴极分别与外部电源相连接,施加直流电进行3D打印,电解液在喷嘴与等离子体处理后的硅片间形成弯液面,在等离子体处理后的硅片表面电沉积形成孪晶增强镀层。本发明方法操作简便,无需助剂的加入,能够实现孪晶晶粒尺寸的精确控制,在不牺牲基底导电性的情况下提高力学强度。

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