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公开(公告)号：CN112391656B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202011221998.X
申请日：2020-11-05
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于激光与电化学沉积交互处理钛合金增材制造铜的方法，该方法首先在钛合金表面沉积铜前，先通过激光处理在钛合金表面形成熔凝层，再对其进行铜沉积；继而对沉积有铜的试样进行激光处理，获得钛/铜元素共存的中间层，再在该层表面继续以相同的工艺电沉积铜，获得第二层铜沉积层，继续对所得沉积层进行激光处理后再沉积，如此激光与电沉积交互处理，在钛合金表面获得铜沉积层；本发明采用绿色环保的激光熔凝方法处理待沉积钛合金基体表面，代替了传统化学预处理方法；激光与电沉积的交互处理，解决了传统电沉积无法无限沉积的缺陷，不仅提高了沉积层质量，也提高了基材与沉积层的结合力。
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公开(公告)号：CN110904485B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201911355524.1
申请日：2019-12-25
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明提供了一种扫描式激光辅助微弧氧化装置及方法，本发明装置无电解槽尺寸束缚，无需超大功率电源，可以进行局部强化或修复处理，降低能耗、提高成膜效率及膜层质量，能够降低微弧氧化起弧电压与能耗，使微弧氧化更容易进行，更快进入到成膜阶段，能够实现对大尺寸工件或复杂型面工件的加工，解决传统加工装置中的面积效应和尖端放电现象，降低工件尺寸对电源输出功率的限制，通过对极间电场的控制，实现特定区域微弧氧化。
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公开(公告)号：CN112391656A
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN202011221998.X
申请日：2020-11-05
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于激光与电化学沉积交互处理钛合金增材制造铜的方法，该方法首先在钛合金表面沉积铜前，先通过激光处理在钛合金表面形成熔凝层，再对其进行铜沉积；继而对沉积有铜的试样进行激光处理，获得钛/铜元素共存的中间层，再在该层表面继续以相同的工艺电沉积铜，获得第二层铜沉积层，继续对所得沉积层进行激光处理后再沉积，如此激光与电沉积交互处理，在钛合金表面获得铜沉积层；本发明采用绿色环保的激光熔凝方法处理待沉积钛合金基体表面，代替了传统化学预处理方法；激光与电沉积的交互处理，解决了传统电沉积无法无限沉积的缺陷，不仅提高了沉积层质量，也提高了基材与沉积层的结合力。
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公开(公告)号：CN110904485A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201911355524.1
申请日：2019-12-25
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明提供了一种扫描式激光辅助微弧氧化装置及方法，本发明装置无电解槽尺寸束缚，无需超大功率电源，可以进行局部强化或修复处理，降低能耗、提高成膜效率及膜层质量，能够降低微弧氧化起弧电压与能耗，使微弧氧化更容易进行，更快进入到成膜阶段，能够实现对大尺寸工件或复杂型面工件的加工，解决传统加工装置中的面积效应和尖端放电现象，降低工件尺寸对电源输出功率的限制，通过对极间电场的控制，实现特定区域微弧氧化。
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公开(公告)号：CN211311631U
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201922362137.2
申请日：2019-12-25
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本实用新型提供了一种扫描式激光辅助微弧氧化装置，包括：电源、阴极棒、喷嘴、激光器、电解槽、循环泵；所述电源正极与待加工的工件连接，电源负极与阴极棒连接；所述喷嘴为中空管状，阴极棒设于喷嘴上部中空的管内，喷嘴与工件之间在垂直位置上相互靠近但不接触；本实用新型装置无电解槽尺寸束缚，无需超大功率电源，可以进行局部强化或修复处理，降低能耗、提高成膜效率及膜层质量，能够降低微弧氧化起弧电压与能耗，使微弧氧化更容易进行，更快进入到成膜阶段，能够实现对大尺寸工件或复杂型面工件的加工，解决传统加工装置中的面积效应和尖端放电现象，降低工件尺寸对电源输出功率的限制，通过对极间电场的控制，实现特定区域微弧氧化。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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