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公开(公告)号:CN105039875B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201510522685.0
申请日:2015-08-24
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种具有超低粗糙度的Ni‑Nb金属薄膜及其制备方法。将Ni、Nb金属原料合成靶材放在多靶磁控溅射镀膜设备的靶位上;衬底采用硅单面抛光片,安装在基片架上,调节距离;腔体抽真空,然后充入氩气,调节腔内气压预溅射;再进行溅射;将硅单面抛光片取出,得到不同Ni、Nb组成成分的Ni‑Nb金属薄膜。本发明制备得到的金属薄膜材料表面粗糙度小于1nm,具有超光滑表面,可用在磁高能激光反射镜、激光陀螺反射镜、光学窗口等领域,作为功能元件则具有高可靠性、高频响、高灵敏性,具有很广的应用前景。
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公开(公告)号:CN105039875A
公开(公告)日:2015-11-11
申请号:CN201510522685.0
申请日:2015-08-24
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种具有超低粗糙度的Ni-Nb金属薄膜及其制备方法。将Ni、Nb金属原料合成靶材放在多靶磁控溅射镀膜设备的靶位上;衬底采用硅单面抛光片,安装在基片架上,调节距离;腔体抽真空,然后充入氩气,调节腔内气压预溅射;再进行溅射;将硅单面抛光片取出,得到不同Ni、Nb组成成分的Ni-Nb金属薄膜。本发明制备得到的金属薄膜材料表面粗糙度小于1nm,具有超光滑表面,可用在磁高能激光反射镜、激光陀螺反射镜、光学窗口等领域,作为功能元件则具有高可靠性、高频响、高灵敏性,具有很广的应用前景。
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