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公开(公告)号：CN105039875B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201510522685.0
申请日：2015-08-24
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种具有超低粗糙度的Ni‑Nb金属薄膜及其制备方法。将Ni、Nb金属原料合成靶材放在多靶磁控溅射镀膜设备的靶位上；衬底采用硅单面抛光片，安装在基片架上，调节距离；腔体抽真空，然后充入氩气，调节腔内气压预溅射；再进行溅射；将硅单面抛光片取出，得到不同Ni、Nb组成成分的Ni‑Nb金属薄膜。本发明制备得到的金属薄膜材料表面粗糙度小于1nm，具有超光滑表面，可用在磁高能激光反射镜、激光陀螺反射镜、光学窗口等领域，作为功能元件则具有高可靠性、高频响、高灵敏性，具有很广的应用前景。
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公开(公告)号：CN105039875A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510522685.0
申请日：2015-08-24
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种具有超低粗糙度的Ni-Nb金属薄膜及其制备方法。将Ni、Nb金属原料合成靶材放在多靶磁控溅射镀膜设备的靶位上；衬底采用硅单面抛光片，安装在基片架上，调节距离；腔体抽真空，然后充入氩气，调节腔内气压预溅射；再进行溅射；将硅单面抛光片取出，得到不同Ni、Nb组成成分的Ni-Nb金属薄膜。本发明制备得到的金属薄膜材料表面粗糙度小于1nm，具有超光滑表面，可用在磁高能激光反射镜、激光陀螺反射镜、光学窗口等领域，作为功能元件则具有高可靠性、高频响、高灵敏性，具有很广的应用前景。
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公开(公告)号：CN103774109B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201410039013.X
申请日：2014-01-26
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种超高灵敏度的Fe-Y-B金属薄膜及其制备方法。其成分Fe、Y、B分别为67~73 at.％，7～11 at.％，14～20 at.％，为非晶态。制备方法包括：将Fe、Y、B金属原料合成靶材，并置于真空环境内的多靶磁控溅射镀膜设备的靶位上；将腔体抽真空，充入Ar2，调节腔内气压，进行预溅射；之后进行溅射，将硅单面抛光片取出，得到Fe-Y-B金属薄膜。本发明的Fe-Y-B金属薄膜为非晶态，采用纵向驱动模式，对微弱磁场具有超高灵敏度的磁阻抗效应，可用于磁传感器的制造。
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公开(公告)号：CN103774109A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201410039013.X
申请日：2014-01-26
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种超高灵敏度的Fe-Y-B金属薄膜及其制备方法。其成分Fe、Y、B分别为67～73at.％，7～11at.％，14～20at.％，为非晶态。制备方法包括：将Fe、Y、B金属原料合成靶材，并置于真空环境内的多靶磁控溅射镀膜设备的靶位上；将腔体抽真空，充入Ar2，调节腔内气压，进行预溅射；之后进行溅射，将硅单面抛光片取出，得到Fe-Y-B金属薄膜。本发明的Fe-Y-B金属薄膜为非晶态，采用纵向驱动模式，对微弱磁场具有超高灵敏度的磁阻抗效应，可用于磁传感器的制造。
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