公开(公告)号：CN113289759B

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202110610256.4

申请日：2021-06-01

Applicant: 浙江大学

Inventor： 李客 ,  张树有 ,  纪杨建 ,  俞春阳 ,  孙林进 ,  李奇轩 ,  代风

IPC: B02C25/00 ,  B02C15/00 ,  B02C23/30

Abstract: 本发明涉及干法粉磨领域，具体地涉及一种干法粉磨系统微粉粒度分布调控方法及装置。所述方法包括：在线获取所述干法粉磨系统的微粉粒度的第一分布状态数据；根据离线获取的基于所述干法粉磨系统的微粉粒度的第二分布状态数据，对所述第一分布状态数据进行修正，得到最终分布状态数据；根据所述最终分布状态数据和参数调控模型，生成对应的干法粉磨系统的调控参数；基于所述调控参数对所述干法粉磨系统的对应部件的工作状态进行调控。本发明提供的实施方式可应用于立磨粉磨系统和辊压机粉磨系统，通过建立微粉粒度在线自动检测系统，解决质量控制的难点，防止过度粉磨而浪费能量。

公开(公告)号：CN113289759A

公开(公告)日：2021-08-24

申请号：CN202110610256.4

申请日：2021-06-01

Applicant: 浙江大学

Inventor： 李客 ,  张树有 ,  纪杨建 ,  俞春阳 ,  孙林进 ,  李奇轩 ,  代风

IPC: B02C25/00 ,  B02C15/00 ,  B02C23/30

Abstract: 本发明涉及干法粉磨领域，具体地涉及一种干法粉磨系统微粉粒度分布调控方法及装置。所述方法包括：在线获取所述干法粉磨系统的微粉粒度的第一分布状态数据；根据离线获取的基于所述干法粉磨系统的微粉粒度的第二分布状态数据，对所述第一分布状态数据进行修正，得到最终分布状态数据；根据所述最终分布状态数据和参数调控模型，生成对应的干法粉磨系统的调控参数；基于所述调控参数对所述干法粉磨系统的对应部件的工作状态进行调控。本发明提供的实施方式可应用于立磨粉磨系统和辊压机粉磨系统，通过建立微粉粒度在线自动检测系统，解决质量控制的难点，防止过度粉磨而浪费能量。