公开(公告)号：CN115963092A

公开(公告)日：2023-04-14

申请号：CN202211566417.5

申请日：2022-12-07

Applicant: 浙江大学

Inventor： 喻洁 ,  施杰根 ,  张秋豪 ,  戚宇 ,  尹航 ,  薛方家 ,  侯迪波 ,  黄平捷 ,  张光新

IPC: G01N21/64

Abstract: 本发明公开了一种基于浊度补偿和散射宽度估计的自适应瑞利散射处理方法，包括以下步骤：S1.获取原始荧光光谱数据；S2.扣除拉曼散射；S3.对发射波长进行插值转换；S4.搜寻每个激发波长对应的发射光谱的一阶瑞利散射去除区域的左边界和右边界；S5.结合S4中得到的一阶瑞利散射去除区域的左边界和右边界、样品的浊度值来估计二阶瑞利散射的左边界和右边界；S6.将S4得到的一阶瑞利散射去除区域边界和S5得到的二阶瑞利散射去除区域边界内的荧光强度置为零；S7.对S6中所得光谱进行S‑G平滑；S8.用Delaunay三角形内插值法对扣除区域进行插值拟合。本方法能有效减少因为瑞利散射区域变宽、强度增强的影响，更好地表征样本中的化学荧光信号。