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发明公开
定位标记组、掩模组和光刻方法审中-公开

公开(公告)号：CN119916640A

公开(公告)日：2025-05-02

申请号：CN202510373535.1

申请日：2025-03-26

Applicant: 浙江创芯集成电路有限公司

Inventor： 李双 , 高大为 , 吴永玉 , 任堃 , 周慧霖 , 吴美琪

IPC: G03F1/42 , G03F9/00 , G03F7/20

Abstract: 一种定位标记组、掩模组和光刻方法，定位标记组包括：第一定位标记，包括：第一定位图形区和第一空白区；第二定位标记，包括：第二定位图形区和第二空白区；所述第一定位标记和所述第二定位标记相对准时，所述第一定位图形和所述第二定位图形相拼接，且所述第一定位图形区与至少部分所述第二空白区对齐重叠，所述第二定位图形区与至少部分所述第一空白区对齐重叠。本发明的掩模组中不同掩模，基于定位图形区的定位图形和空白区进行拼接，所述掩模上定位标记组中定位标记的位置设置自由，能够突破定位标记在掩模上设置位置的限制，能够突破曝光顺序的限制，能够有效减少出错，有利于工艺窗口的扩大，有利于降低工艺难度。

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