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公开(公告)号:CN102222672B
公开(公告)日:2012-10-31
申请号:CN201110123820.6
申请日:2011-05-13
Applicant: 济南大学
IPC: H01L27/115 , H01L21/02
Abstract: 本发明公开了一种铁酸铋基薄膜层叠结构电容器及其制备方法,该电容器从下到上依次包括底电极、衬底、缓冲层、铁电薄膜层和金属点电极,所述缓冲层为掺锰钛酸锶钡薄膜,化学式为Ba0.6Sr0.4Ti(1-x)MnxO3,x为元素锰的摩尔当量,x=0.005-0.05;所述铁电薄膜层为铁酸铋基薄膜,化学式为Bi(1-y)LnyFeO3,其中,Ln为镧系元素中的一种,y为镧系元素的摩尔当量,y=0.01-0.2。本发明制备方法简单,所得的电容器是铁电场效应晶体管的存储单元,该电容器克服了一般硅衬底上铁酸铋基薄膜电容器界面性能差、工作电压高的缺点,具有良好的存储性能。
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公开(公告)号:CN102222672A
公开(公告)日:2011-10-19
申请号:CN201110123820.6
申请日:2011-05-13
Applicant: 济南大学
IPC: H01L27/115 , H01L21/02
Abstract: 本发明公开了一种铁酸铋基薄膜层叠结构电容器及其制备方法,该电容器从下到上依次包括底电极、衬底、缓冲层、铁电薄膜层和金属点电极,所述缓冲层为掺锰钛酸锶钡薄膜,化学式为Ba0.6Sr0.4Ti(1-x)MnxO3,x为元素锰的摩尔当量,x=0.005-0.05;所述铁电薄膜层为铁酸铋基薄膜,化学式为Bi(1-y)LnyFeO3,其中,Ln为镧系元素中的一种,y为镧系元素的摩尔当量,y=0.01-0.2。本发明制备方法简单,所得的电容器是铁电场效应晶体管的存储单元,该电容器克服了一般硅衬底上铁酸铋基薄膜电容器界面性能差、工作电压高的缺点,具有良好的存储性能。
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