-
公开(公告)号：CN104898371A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201510355304.4
申请日：2015-06-25
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种纳米压印易脱模方法，该脱模方法的特点是不一次性直接将印章和胶体分开，而是提拉与下压结合分阶段进行，具体工艺步骤如下：a、将印章向上提拉印章腔体或凸起高度的三分之一；b、将印章下压，与胶体再次完全接触；c、将印章再次向上提拉印章腔体或凸起高度的三分之二；d、将印章下压，与胶体再次完全接触；e、将印章向上提拉直至完全脱模。本发明工艺过程比较简单方便，而且有利于纳米压印时脱模。
Search Results
1
records
(took 0.016 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
