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公开(公告)号:CN115020302B
公开(公告)日:2022-10-14
申请号:CN202210828946.1
申请日:2022-07-15
Applicant: 江苏芯梦半导体设备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种晶圆存放盒的清洗烘干设备及清洗烘干方法,清洗烘干设备包括机架、机械手、上料装置、清洗装置、烘干装置和下料装置,清洗装置和烘干装置上分别设置相应的旋钮机构和定位机构,可以在将晶圆存放盒进行清洗和烘干时,将晶圆存放盒的盖子和盒体分开,使二者相对独立不盖合,可以对盒体和盖子进行充分的清洗和烘干,保证清洁程度,同时晶圆存放盒烘干过程中通过提高氮气环境,并在真空环境下,可以降低液体沸点,提高烘干效率,避免缝隙中水分残留,具有优异的烘干效果。
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公开(公告)号:CN114823431A
公开(公告)日:2022-07-29
申请号:CN202210737956.4
申请日:2022-06-28
Applicant: 江苏芯梦半导体设备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于清洗晶圆的喷射装置,包括喷嘴架及喷嘴主体。喷嘴主体具有分别沿上下方向延伸的第一流体通道与第二流体通道,第二流体通道环设于第一流体通道的周部,两者之间通过环形壁间隔开。喷嘴主体还具有位于下端部的第一出口与第二出口,第一出口与第一流体通道相连通,第二出口与第二流体通道相连通,第二出口环设于第一出口的周部。喷射装置还包括一端部与第一流体通道相连通的第一流体管、一端部与第二流体通道相连通第二流体管、一端部与第一流体通道和/或第二流体通道相连通的第三流体管。该喷射装置集成了气液清洗功能,同时具备喷射液体、气体或气液混合体等多种清洗模式,有助于缩短清洗时间,提升工业产能。
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公开(公告)号:CN115020302A
公开(公告)日:2022-09-06
申请号:CN202210828946.1
申请日:2022-07-15
Applicant: 江苏芯梦半导体设备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种晶圆存放盒的清洗烘干设备及清洗烘干方法,清洗烘干设备包括机架、机械手、上料装置、清洗装置、烘干装置和下料装置,清洗装置和烘干装置上分别设置相应的旋钮机构和定位机构,可以在将晶圆存放盒进行清洗和烘干时,将晶圆存放盒的盖子和盒体分开,使二者相对独立不盖合,可以对盒体和盖子进行充分的清洗和烘干,保证清洁程度,同时晶圆存放盒烘干过程中通过提高氮气环境,并在真空环境下,可以降低液体沸点,提高烘干效率,避免缝隙中水分残留,具有优异的烘干效果。
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公开(公告)号:CN114823430A
公开(公告)日:2022-07-29
申请号:CN202210737933.3
申请日:2022-06-28
Applicant: 江苏芯梦半导体设备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于晶圆清洗的设备及方法,设备包括工作台、设置在工作台上的载台及清洗喷射装置,清洗喷射装置包括喷嘴架、固设于喷嘴架上的喷嘴主体,以及分别与喷嘴主体相连通的第一流体管、第二流体管第三流体管。其中,喷嘴主体具有分别沿上下方向延伸的第一流体通道与第二流体通道,第二流体通道环设于第一流体通道的周部,第一流体通道下端部具有第一出口,第二流体通道下端部具有第二出口。方法依次包括如下步骤:S1、第一出口和/或第二出口喷射水;S2、第一出口喷射氮气与水的混合流体,第二出口喷射氮气或水;S3、第一出口喷射氮气。本发明优化了清洗喷射装置的结构及设备整体的空间布局,结构简单、控制方便、清洗效率高。
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