一种高精度线性位移检测系统
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116222464A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202310506007.X

    申请日:2023-05-08

    Abstract: 本发明公开了一种高精度线性位移检测系统,包括:基线导轨;设置在基线导轨上能够沿基线导轨滑动的位移移动装置;激光干涉位移数据采集系统,包括激光器和反射镜组;激光器作为标准测量器件,反射镜组对用于三路光路,形成用于激光器补偿的测量平面;激光分光系统,用于将激光器发射的激光分成三个平行且不共线的光路;环境监测模块,用于采集环境参数;补偿模块,用于根据环境参数补偿激光器的波长,并根据采集的位移量和另外两条光路与主光路的距离,对激光器的测量值进行补偿;计算模块,根据激光器采集的位移量和被测仪器采集的位移量计算被测仪器的示值误差。本发明能够对大长度类计量仪器提供量值溯源。

    一种用于双面抛光晶圆测量干涉仪的映射校准装置

    公开(公告)号:CN221037285U

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202420516650.0

    申请日:2024-03-18

    Abstract: 本实用新型属于晶圆面型干涉检测的技术领域,具体地说是一种用于双面抛光晶圆测量干涉仪的映射校准装置,包括刻蚀有映射校准关系的校准槽的透明亚克力板、晶圆测量干涉仪,通过两台晶圆测量干涉仪分别对校准槽结构进行成像,获得每台干涉仪各自的成像畸变;通过分析两台晶圆测量干涉仪之间的空间位置关系和各自的成像畸变,获得两台晶圆测量干涉仪测得的面形数据之间的映射关系,实现映射校准。本实用新型不仅能够实现对双面抛光晶圆测量干涉系统的检验与校准,而且消除了映射误差对晶圆形貌参数的影响,同时能够高精度的一次性获得晶圆的全表面形貌和相关参数信息。

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