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公开(公告)号：CN114229790B
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202111334444.5
申请日：2021-11-11
Applicant: 江苏普诺威电子股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种基于MEMS槽孔壁的复合式处理工艺，包括如下步骤：开料；钻孔：利用钻孔机在PTFE板材上钻出多个对位靶孔作为靶标；镭射烧槽：镭射机抓取钻孔靶标，利用CO2激光在靶标处镭射开设所需尺寸的槽孔；喷砂：利用喷砂机对槽孔的内壁进行喷砂处理，以清除槽孔壁的黑氧化铜碎屑和碳化碎屑；等离子清洗：利用等离子清洗机对槽孔的内壁进行处理，以清理掉槽孔壁顽固的环氧树脂和聚四氟乙烯毛刺；除胶渣：利用高锰酸钾溶液进一步去除槽壁残留的胶渣，并使得槽壁粗化，以利于后制程电镀具有更好的附着表面；沉铜电镀。本发明利用复合式处理工艺提高了槽孔壁的圆润度和平整度，提高了产品的品质。
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公开(公告)号：CN114025496B
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202111334442.6
申请日：2021-11-11
Applicant: 江苏普诺威电子股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种PCB等边三角形的制作方法，包括如下步骤：开料与烘烤：将PCB裁切成一定的尺寸，并放于烘箱中烘烤；钻孔：利用钻孔机在PCB上钻出多个定位孔；图形设计：根据设计标准，利用软件画出等边三角形和等腰梯形，并形成新的设计图形，线路曝光：依设计资料抓取机械定位孔定位，利用光化学反应将设计图形转移到PCB板上，通过干膜中未曝光成分与弱碱发生反应而溶解出设计影像资料图形；图形蚀刻：将裸露的铜面与蚀刻溶液接触，通过溶解腐蚀铜的效应，形成所需的等边三角形镂空成型的效果。利用本发明设计的图形蚀刻出成品图形更接近等边三角形，其尖角具有外形，满足设计外观的要求。
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公开(公告)号：CN114229790A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202111334444.5
申请日：2021-11-11
Applicant: 江苏普诺威电子股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种基于MEMS槽孔壁的复合式处理工艺，包括如下步骤：开料；钻孔：利用钻孔机在PTFE板材上钻出多个对位靶孔作为靶标；镭射烧槽：镭射机抓取钻孔靶标，利用CO2激光在靶标处镭射开设所需尺寸的槽孔；喷砂：利用喷砂机对槽孔的内壁进行喷砂处理，以清除槽孔壁的黑氧化铜碎屑和碳化碎屑；等离子清洗：利用等离子清洗机对槽孔的内壁进行处理，以清理掉槽孔壁顽固的环氧树脂和聚四氟乙烯毛刺；除胶渣：利用高锰酸钾溶液进一步去除槽壁残留的胶渣，并使得槽壁粗化，以利于后制程电镀具有更好的附着表面；沉铜电镀。本发明利用复合式处理工艺提高了槽孔壁的圆润度和平整度，提高了产品的品质。
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公开(公告)号：CN114025496A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111334442.6
申请日：2021-11-11
Applicant: 江苏普诺威电子股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种PCB等边三角形的制作方法，包括如下步骤：开料与烘烤：将PCB裁切成一定的尺寸，并放于烘箱中烘烤；钻孔：利用钻孔机在PCB上钻出多个定位孔；图形设计：根据设计标准，利用软件画出等边三角形和等腰梯形，并形成新的设计图形，线路曝光：依设计资料抓取机械定位孔定位，利用光化学反应将设计图形转移到PCB板上，通过干膜中未曝光成分与弱碱发生反应而溶解出设计影像资料图形；图形蚀刻：将裸露的铜面与蚀刻溶液接触，通过溶解腐蚀铜的效应，形成所需的等边三角形镂空成型的效果。利用本发明设计的图形蚀刻出成品图形更接近等边三角形，其尖角具有外形，满足设计外观的要求。
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