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公开(公告)号：CN104649219B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510075300.0
申请日：2015-02-12
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供一种新型图案化碳-锡复合材料微结构的微加工工艺，包括如下步骤：通过水热法制取“自下而上”的SnO2球状微纳米结构；通过紫外光刻、半导体微加工工艺，制取图案化光刻胶-SnO2纳米复合材料微结构；通过惰性气氛下的热解碳化-还原，制取图案化碳-锡复合材料微结构。本发明提出了一种基于C-MEMS的优化工艺以制作图案化的碳-锡复合材料微结构，该工艺融合利用了半导体领域的相关技术和微纳米结构合成的方法，工艺简洁、相关技术成熟，可应用于大规模生产，所得到的碳-锡复合材料微结构有着较好的机械性能，较高的化学稳定性和较好的电化学性能。
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公开(公告)号：CN104752282A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201510089590.4
申请日：2015-02-27
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供一种用于微纳器件制作的样品处理装置，包括由铁氟龙制作的洗显装置与甩干装置，所述洗显装置包括底盘、通过螺丝固定在所述底盘上的提杆，所述底盘上设有若干矩形凹槽与圆形通孔，所述圆形通孔从所述底盘底面贯穿至所述矩形凹槽底部；所述甩干装置中间设有凹槽、周围设有镂空的齿状边缘；还提供了一种用于微纳器件制作的样品清洗、显影、润洗的处理工艺。本发明的样品处理装置，用于样品清洗、显影、润洗与甩干过程盛放微纳器件，使样品能得到稳定可靠的清洗与甩干；本发明的样品处理工艺，可显著提高样品清洗、显影、润洗的效率，缩短微纳器件制作周期。
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公开(公告)号：CN104649219A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201510075300.0
申请日：2015-02-12
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供一种新型图案化碳-锡复合材料微结构的微加工工艺，包括如下步骤：通过水热法制取“自下而上”的SnO2球状微纳米结构；通过紫外光刻、半导体微加工工艺，制取图案化光刻胶-SnO2纳米复合材料微结构；通过惰性气氛下的热解碳化-还原，制取图案化碳-锡复合材料微结构。本发明提出了一种基于C-MEMS的优化工艺以制作图案化的碳-锡复合材料微结构，该工艺融合利用了半导体领域的相关技术和微纳米结构合成的方法，工艺简洁、相关技术成熟，可应用于大规模生产，所得到的碳-锡复合材料微结构有着较好的机械性能，较高的化学稳定性和较好的电化学性能。
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公开(公告)号：CN104752282B
公开(公告)日：2018-08-07
申请号：CN201510089590.4
申请日：2015-02-27
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供一种用于微纳器件制作的样品处理装置，包括由铁氟龙制作的洗显装置与甩干装置，所述洗显装置包括底盘、通过螺丝固定在所述底盘上的提杆，所述底盘上设有若干矩形凹槽与圆形通孔，所述圆形通孔从所述底盘底面贯穿至所述矩形凹槽底部；所述甩干装置中间设有凹槽、周围设有镂空的齿状边缘；还提供了一种用于微纳器件制作的样品清洗、显影、润洗的处理工艺。本发明的样品处理装置，用于样品清洗、显影、润洗与甩干过程盛放微纳器件，使样品能得到稳定可靠的清洗与甩干；本发明的样品处理工艺，可显著提高样品清洗、显影、润洗的效率，缩短微纳器件制作周期。
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